Occasion CARL ZEISS AIMS 193 #9196378 à vendre en France

ID: 9196378
Mask qualification system With COHERENT LDU ESI 500 Hz, FT, 193 nm KL2500 LCD Microscope standard illumination system TUILASER ExciStar S-Industrial V2 HALCYONICS Control unit PHOTOMETRICS Quantix KAF1400-G1-M, P/N: A97J6002 MARZHAUSER WETZLAR Kg Scan, 260 x 240 MSM, P/N: 90-24-009-0000 XC-73CE CCD Video module TUI LASER MCB500.
CARL ZEISS AIMS 193 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour la gestion des risques et des défauts de plaquettes. Il s'agit d'un système d'imagerie avancé qui fournit des images sous-microns de résolution de motifs sur masque et plaquettes semi-conducteurs. L'unité d'imagerie capture des images numériques de la surface du masque/plaquette et suit son processus de développement. AIMS 193 est équipé de plusieurs dispositifs tels qu'un spectrographe, un microscope et une fente. Avec ces composants, il est capable de fournir une résolution d'image supérieure de 0,1 - 0,2 um avec un champ de vision maximum de 512x8192. En plus du matériel d'imagerie, la machine est également équipée d'un logiciel qui permet aux utilisateurs de gérer et d'analyser les données d'image. Le logiciel comprend un outil de traçage qui permet aux utilisateurs de suivre les valeurs de changements et possède des capacités d'analyse d'imagerie avancées. Il permet d'examiner les processus de fabrication et d'alignement en temps réel. En outre, le logiciel offre une variété d'options pour la manipulation de l'imagerie, y compris le réglage du contraste, le réglage du rapport d'aspect, le réglage de la netteté, le tranchage et l'extraction des objets. L'actif dispose également d'un écran tactile pour une navigation et une configuration efficaces. Il fournit des fonctions telles que « zoom », « pan », « rotation », « inverse », « teinte », « saturation », « rotation », « étiquette », et image « édition ». En outre, le dispositif peut également capturer des images numériques haute résolution des caractéristiques et des défauts de la métallisation. Le logiciel peut ensuite être utilisé pour analyser les images pour vérifier différents types de résultats de tests, génération de modèles 3D, tolérances et traductions. CARL ZEISS AIMS 193 est un modèle d'inspection avancé conçu pour détecter et surveiller les défauts sur les masques et plaquettes semi-conducteurs. Cet équipement fournit des capacités d'imagerie supérieures de résolution de sous-microns, ainsi que des outils d'analyse et de manipulation. Avec sa combinaison de matériel et de logiciels, AIMS 193 est un système efficace pour la gestion des défauts, la visualisation et les processus de fabrication.
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