Occasion CARL ZEISS AIMS 32-193i #9254199 à vendre en France

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ID: 9254199
Photomask repair system For stepper, 193 nm LITO Grade optics VIS Microscope Illumination unit Interferometer stage ArF Industrial grade Excimer laser Wavelength 193.4 nm Sigma aperture slider: ~100 Sigma apertures SMIF, 8" Handler system TUILASER ExciStar S-Industrial Laser Excimer (Argon fluoride) Wavelength: 193 nm Embedded laser class IV Laser class I Pulsed Wafer equivalent NA: >1 Numerical aperture range: 0.9 - 1.4 scanner NA Sigma range: 0.3 - 0.98 Illumination type: circular and off axis Linear polarization capability Vector effect emulation capability Through pellicle capability Reticle: 6"/250 mil with/without soft pellicle Stepper reduction: 1:4 Measurement field: 10 x 10μm Power supply: 400V 2010 vintage.
CARL ZEISS AIMS 32-193i est un équipement avancé d'inspection des masques et des plaquettes qui est utilisé dans la production de semi-conducteurs. Ce système est conçu pour aider les fabricants à identifier et à résoudre les problèmes potentiels dans leur processus de lithographie. L'unité de contrôle est construite sur un étage 33 « x 33 » avec une machine optique télécentrique qui fournit une image claire et répétable. Il a un illuminateur LED avec éclairage spectral qui aide à réduire l'éblouissement et à améliorer le contraste. L'outil dispose d'une ouverture de 193nm et d'une optique NA haute, ainsi que d'une caméra de 8 mégapixels pour les images haute résolution. Il dispose d'un atout de vision automatisé qui permet des temps de cycle rapides et est capable d'inspection à grande vitesse des défauts de modèle. AIMS 32-193i est équipé d'une interface utilisateur intuitive qui permet d'accéder facilement aux fonctionnalités du modèle telles que la mise au point automatisée, l'appariement des motifs et l'inspection par balayage en ligne. Il est conçu pour des niveaux élevés de précision et de répétabilité, avec un taux d'erreur inférieur à 1 %. Cet équipement est également équipé de capacités avancées de traitement d'image pour détecter les plus petites imperfections et assurer des plaquettes sans défaut. Le système est équipé d'un large éventail d'outils d'analyse, tels qu'un ensemble complet de fonctions de métrologie. Les outils de métrologie fournissent des informations sur la taille et la forme des motifs, ainsi que sur la superposition et l'uniformité des processus. L'unité peut également mesurer les distances entre les objets sur la plaquette avec une grande précision. Dans l'ensemble, CARL ZEISS AIMS 32-193i est une machine d'inspection fiable et puissante qui est conçue pour aider les fabricants de semi-conducteurs à améliorer leur processus de lithographie et assurer des plaquettes sans défaut. Il est capable de haute vitesse d'inspection des motifs, et dispose d'une interface utilisateur intuitive pour un accès facile aux fonctionnalités de l'outil. Il est également équipé d'un ensemble robuste d'outils de métrologie qui fournissent une analyse détaillée des motifs, des chevauchements et de l'uniformité des processus. Cet atout est essentiel pour aider les entreprises de semi-conducteurs à produire des plaquettes de haute qualité et s'assurer que leurs produits répondent aux normes strictes de l'industrie.
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