Occasion CARL ZEISS AIMS 32 #9293596 à vendre en France

CARL ZEISS AIMS 32 est un équipement avancé d'inspection des masques et des plaquettes qui combine l'imagerie haute résolution avec des algorithmes exclusifs avancés. Ce système innovant de l'un des principaux producteurs mondiaux de microscopes et de systèmes d'imagerie scientifique est idéal pour tous les types de substrats, y compris les photomasques, le verre, la céramique et les plaquettes. AIMS 32 est conçu pour assurer une détection des défauts plus rapide et plus précise que les autres systèmes d'inspection actuellement sur le marché. Au cœur de CARL ZEISS AIMS 32 se trouve l'unité optique multicouche CARL ZEISS OptiChrome. Cette machine utilise une combinaison d'optique achromatique à large bande et d'imagerie haute résolution pour capturer les principales caractéristiques de chaque échantillon. Un algorithme de reconnaissance de motifs de forme variable est utilisé pour analyser la structure de l'échantillon et détecter les anomalies éventuelles. Une fois l'image capturée, l'outil peut identifier instantanément des défauts tels que des contaminants, des défauts de traitement et d'autres imperfections. AIMS 32 comprend également des fonctionnalités avancées pour rationaliser le processus d'inspection et améliorer l'exactitude des résultats. L'actif est conçu pour être facile à utiliser et peut être étalonné rapidement pour tenir compte de différentes tailles d'échantillons. Le logiciel complet comporte des aides « assistant » à l'écran et un contrôle automatisé des modules, et peut stocker jusqu'à 100 000 ensembles d'images pour un rappel ou une comparaison facile. Le modèle comprend également des capacités de métrologie sophistiquées conçues pour mesurer et enregistrer avec précision une variété de caractéristiques, y compris la rugosité des bords de ligne, les largeurs de ligne, les trous de contact et la topographie des défauts. Cela permet aux utilisateurs de détecter rapidement les problèmes potentiels de production et de modifier leurs processus pour améliorer l'efficacité. CARL ZEISS AIMS 32 est compatible avec la plupart des substrats standard de l'industrie et s'intègre parfaitement dans les systèmes de production existants. Son équipement d'imagerie très précis et sa conception modulaire le rendent parfait pour toute application, y compris la cartographie photomasque et wafer, le développement et la surveillance des processus, et le contrôle de la qualité des produits. Le système AIMS 32 masque et wafer inspection est une solution innovante conçue pour améliorer le rendement, réduire les coûts et maximiser la qualité des produits dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses capacités exceptionnelles d'imagerie et d'analyse automatisée des données en font le choix idéal pour tout masque ou unité d'inspection de plaquettes.