Occasion CARL ZEISS / HSEB MIT300 #293639397 à vendre en France

CARL ZEISS/HSEB MIT300 Mask & Wafer Inspection Equipment est un système de pointe conçu spécifiquement pour la détection des défauts. Grâce à une unité optiquement adaptative à balayage rapide, HSEB MIT300 est capable de détecter même les défauts les plus minuscules avec une précision et une planéité inégalées. La machine contient une tête de 16 mégapixels qui capture une prise de vue à une cadence maximale de 5000 images par seconde, ce qui la rend bien adaptée aux applications de balayage à grande vitesse. La caméra contient également une taille de pixel de 8,3 µm et une plage dynamique de 72 dB. De plus, l'outil a la capacité de fournir des mesures d'intralithographie et de superposition, fournissant les niveaux les plus élevés de mesures d'uniformité de production de plaquettes. L'actif comprend également un modèle optique propriétaire 4 "qui consiste en une optique de phase planaire avec un champ de vision complet. L'équipement est également livré avec des algorithmes avancés d'analyse d'image, permettant une inspection fiable et rapide des défauts de masque et de plaquette. Il dispose en outre d'un système d'étage X/Y intégré pour le positionnement et l'inspection rapides et faciles des plaquettes dans le champ de numérisation. De plus, ses étages mécanisés robustes rendent l'appareil moins sensible aux vibrations environnementales provenant de sources externes, ce qui permet une plus grande précision de l'analyse par rapport à d'autres systèmes sur le marché. Afin d'assurer une productivité maximale, la machine est alimentée par un logiciel intuitif d'interface graphique qui est adapté aux besoins spécifiques de l'inspection des masques et des plaquettes. Le logiciel est livré avec une série d'outils intégrés d'analyse et d'examen des défauts, tels que l'amélioration de l'image DICE, les mesures de superposition Sub-Micron, le chemin limite personnalisable pour passer ou échouer la classification et bien plus encore. De plus, il offre des fonctions d'analyse de plaquettes en temps réel et d'inspection des défauts, y compris l'identification automatique des défauts, la détection algorithmique des défauts et la reconnaissance des faux défauts. L'outil est conforme aux normes ISO et SEMI, permettant une manipulation douce des plaquettes et des masques. L'actif fonctionne également de manière respectueuse de l'environnement, avec ses faibles besoins en puissance. Il est livré avec un large choix d'options et de matériel, comme une tête optique pour les systèmes de numérisation ASML et 193i, un dépôt automatique de rapports en option, des solutions logicielles sur mesure et bien plus encore. Dans l'ensemble, CARL ZEISS MIT300 Mask & Wafer Inspection Model est un équipement haut de gamme qui offre des capacités d'inspection de pointe. Son système optique avancé, son logiciel intégré et ses nombreuses options supplémentaires en font un choix idéal pour répondre aux exigences actuelles en matière de détection des défauts.