Occasion CHAUVIN ARNOUX CA 6425 #9352728 à vendre en France

CHAUVIN ARNOUX CA 6425 Masque et Wafer Inspection Equipment est un système d'essai et de mesure de semi-conducteurs conçu pour l'inspection de plaquettes avancées et de lithographie de masque. Il est équipé d'une station optique qui fournit une imagerie numérique haute résolution pour la détection des défauts. Cette unité dispose d'une interface utilisateur intuitive, de fonctions automatisées et de capacités de mesure qui peuvent être personnalisées pour des applications spécifiques. La machine d'inspection est livrée avec le logiciel CHAUVIN-ARNOUX CA 6420/6421 Digital Video Tools, un outil de développement intégré qui fournit une interface graphique intuitive et puissante pour contrôler l'opération. Ce logiciel permet à l'utilisateur de mesurer, d'analyser et de rapporter les plaquettes et masques imagés en effectuant des opérations telles que le contraste, la luminosité et les opérations binaires. Le logiciel CA 6420/6421 Video Tools permet également des fonctions avancées telles que la reconnaissance de masque de bord et de trou et le marquage croisé. D'autres caractéristiques de CA 6425 Masque et Wafer Inspection comprennent un champ de vision variable pour l'imagerie haute et basse résolution, de multiples options d'éclairage pour différents types de masques et de plaquettes, des capacités de capture et de comparaison d'images, ainsi que des capacités étendues pour la classification et le rapport des défauts automatiques (ADCR). L'outil CHAUVIN ARNOUX CA 6425 Masque et Wafer Inspection peut être intégré avec un certain nombre d'équipements et d'accessoires d'inspection externes tels qu'un étage de mouvement Z motorisé, des étages X-Y motorisés et manuels, caméra numérique, 2D BGA pick-and-place et des systèmes de mesure de niveau de wafer. Pour garantir la précision, tous les appareils externes sont soigneusement calibrés par le logiciel CHAUVIN-ARNOUX selon l'application spécifique. De plus, l'actif CA 6425 Masque et Wafer Inspection peut également être intégré à un module d'analyse, permettant à la fois l'évaluation des défauts et la classification et la déclaration des défauts. Le module d'analyse offre des capacités de mesure et de rapport automatisées pour diverses caractéristiques d'essai telles que la largeur de la ligne et du bord, la taille du cercle et de l'ellipse, ainsi que la précision de l'enregistrement. Dans l'ensemble, CHAUVIN ARNOUX CA 6425 Masque et Wafer Inspection modèle est un équipement intuitif et puissant qui fournit une imagerie haute résolution, des capacités de mesure automatisées et personnalisées, et l'analyse intégrée des défauts. Il a été conçu pour répondre aux exigences de production de wafer et masques de dispositifs à grande vitesse de l'industrie de fabrication de semi-conducteurs d'aujourd'hui.