Occasion DATAPHYSICS OCA 40 #293607248 à vendre en France

DATAPHYSIQUE OCA 40 Masque et Wafer Inspection Equipment est conçu pour une métrologie précise des masques et des wafers. Il offre une imagerie haute résolution avec capture de données et analyse des caractéristiques de surface pour le contrôle de la qualité dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système se compose d'un sous-système de mouvement et de contrôle composé d'une métrologie de position et dimensionnelle en 3D à travers l'objectif, d'une métrologie laser, d'une unité de zoom motorisée de précision, ainsi que de commandes trans- « Z » et de paliers pneumatiques, de mouvements d'inspection à grande vitesse. Le sous-système optique dispose de capacités intégrées de capture vidéo, d'acquisition de données et d'analyse, ainsi que de l'utilisation d'un éclairage dynamique élevé. La machine d'imagerie est équipée d'une variété de lentilles qui facilitent un taux de grossissement faible à élevé, permettant une large gamme de paramètres d'imagerie, y compris le champ de vision, la distance d'échantillonnage, la résolution des pixels et la gamme spectrale. L'outil d'analyse embarqué fournit des capacités d'analyse de données telles que la détection et la reconnaissance automatiques des défauts (ADF-R), la modélisation en éléments finis, le comptage automatique des pixels de tracé de profil, la mesure et la corrélation des zones, et l'enregistrement en coordonnées 3D. L'actif dispose également d'outils de mesure automatisés tels que la métrologie des couches de lunettes et de masques. Le modèle est conçu pour fournir des mesures rapides, précises et répétables, permettant des examens plus rapides et une assurance de la qualité plus précise et des décisions de rendement pour les fabricants de plaquettes. Il est très flexible et permet aux utilisateurs de personnaliser des paramètres et d'utiliser des formats d'enregistrement multiples pour la collecte de données. OCA 40 supporte un large éventail d'algorithmes d'analyse d'images et de capacités utiles de reconnaissance de motifs, permettant aux utilisateurs d'identifier les défauts potentiels et de réduire la nécessité d'inspecter manuellement un grand nombre de masques et de plaquettes. L'équipement est offert sous forme portable et peut être synchronisé avec d'autres équipements de production. Dans l'ensemble, DATAPHYSIQUES OCA 40 Masque et Wafer Inspection System fournit des mesures, des capacités et des fonctionnalités efficaces, très précises et reproductibles pour l'inspection et la vérification des masques et des wafers, ce qui en fait un outil idéal pour le contrôle de la qualité et de la production dans l'industrie des semi-conducteurs.