Occasion ESTEK / KODAK WIS-850 II #168347 à vendre en France

ESTEK/KODAK WIS-850 II est un masque complet et un équipement d'inspection des plaquettes pour le contrôle des processus de fabrication. Il permet une inspection rapide et fiable des photomasques et des plaquettes pour une analyse quantitative et qualitative. Il peut détecter un large éventail de défauts, allant des défauts liés au processus de production aux défauts de fabrication du masque/wafer, y compris les particules de particules, les trous de rose, les grains et les résidus de carbone. Le système d'inspection ESTEK WIS-850 II combine des microscopes optiques à longue distance de haute résolution (OLWDM) et des algorithmes avancés de traitement d'images. L'unité d'acquisition d'images capture des plaquettes et des masques en plein champ de vision à une résolution d'image de 3.5um/pixel. Grâce à une interface graphique, l'utilisateur peut facilement configurer les opérations automatiques d'inspection des masques/plaquettes, configurer les paramètres de fonctionnement et examiner les résultats. Les mesures de topographie, de CD et de la taille et de la forme des défauts peuvent être effectuées avec le module d'analyse en temps réel, qui recherche et classe tous les défauts des plaquettes et des masques selon des règles d'acceptation prédéfinies. La machine offre des options d'alignement statique et dynamique. Dans l'alignement statique, les points de consigne sont criblés pour réduire le temps de recherche et améliorer la précision de l'alignement. En alignement dynamique, l'outil d'inspection utilise des algorithmes de reconnaissance de motifs et d'appariement pour aligner automatiquement masques et plaquettes en temps réel. KODAK WIS-850 II est également conçu avec un logiciel spécial pour l'inspection optique de contraste élevé qui fournit une approche d'inspection entièrement automatisée pour la production à grande échelle et le contrôle par lots. En outre, l'actif dispose de fonctions d'auto-calibrage et d'auto-focus pour s'adapter au vieillissement de la machine, et peut détecter et mesurer les distorsions dans les modèles et les unités produites pendant le processus d'acquisition d'image. Ses capacités avancées de contrôle du mouvement et de l'éclairage garantissent que toutes les informations de défaut sont collectées avec précision dans le champ lumineux et l'inspection du champ sombre. Le modèle WIS-850 II offre des performances fiables et un taux élevé. Il est facile à utiliser, avec des outils intuitifs et des contrôles qui permettent à l'utilisateur de mettre en place rapidement un cycle de production et d'optimiser le processus d'inspection. Avec ses capacités d'image haute résolution et d'inspection automatique des défauts, il est un choix idéal pour le contrôle des processus de production de photomasques et de plaquettes.