Occasion GRAHAM OPTICAL FP-2X #9071325 à vendre en France

GRAHAM OPTICAL FP-2X Masque & Wafer Inspection Equipment est une plate-forme d'inspection de nouvelle génération conçue pour fournir des résultats de performance supérieurs pour les inspections de masque et de wafer. Ce système offre plusieurs fonctionnalités avancées, dont l'imagerie haute résolution, un mode de balayage complet, de multiples éclairages, l'optimisation automatisée de l'image, et un module de repérage automatisé. Le module d'imagerie haute résolution permet aux utilisateurs d'inspecter à un niveau beaucoup plus fin qu'auparavant, permettant la détection de petites caractéristiques sur les plaquettes et les masques. Le mode de balayage complet permet aux utilisateurs de balayer rapidement toute une plaquette ou un masque, tandis que les multiples éclairages fournissent des images de contraste élevé dans les spectres visible et infrarouge. La fonction d'optimisation d'image automatisée permet aux utilisateurs d'identifier et de catégoriser rapidement les caractéristiques des plaquettes et des masques en fonction de la taille, de la densité et du contraste. Cette fonctionnalité permet de réduire le temps d'inspection manuelle et d'améliorer le débit. Le module de suivi de focalisation automatisé offre une meilleure précision lors de la numérisation des plaquettes et des masques, fournissant une focalisation précise pour les deux. FP-2X Masque et Wafer Inspection Unit offre des performances et une précision supérieures pour les inspections de masque et de wafer. Avec ses fonctionnalités de pointe, y compris l'imagerie haute résolution, le mode de balayage intégral, les éclairages multiples, l'optimisation automatisée des images et le module de suivi automatisé des foyers, cette machine établit une nouvelle norme pour les systèmes d'inspection des masques et des plaquettes.