Occasion HERMES MICROVISION / HMI eP4 #9389783 à vendre en France

HERMES MICROVISION / HMI eP4
ID: 9389783
E-Beam inspection system.
HERMES MICROVISION/HMI eP4 est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes conçu avec une technologie d'imagerie de pointe pour des applications nanotech de haute précision. Ce système offre une solution d'inspection complète capable de détecter les défauts et anomalies au niveau du micron. Les caractéristiques intégrées de l'équipement permettent une analyse efficace et rapide des défauts des plaquettes semi-conductrices et des masques, contribuant à obtenir des rendements plus élevés dans la production. L'unité voit un large éventail d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs de pointe et la conception de puces, y compris 3-D et flip-chip paquet inspection, microfluidique dispositif d'inspection, inspection de masque, et beaucoup d'autres. Construite avec un éclairage multi-longueurs d'onde ultra-court et une optique variable, la machine permet une imagerie contrastée ultra-haute qui permet de détecter des défauts très petits et difficiles à détecter. L'optique de l'outil est équipée d'un objectif découplé et d'un atout de projection, d'un objectif de focus principal et d'une capacité de focus-follow automatisée, offrant un large champ de vision et une profondeur d'image supérieure. Grâce à son optique avancée, le modèle permet l'imagerie haute résolution et l'amélioration de l'image jusqu'à 10x grossissement. En outre, l'outil est également capable de woofer/tweeter technique d'éclairage, fournissant une modification dynamique de gamme et un meilleur rapport signal sur bruit. L'interface utilisateur de l'équipement est conçue pour faciliter la navigation et le fonctionnement. Il comprend un écran tactile intuitif avec des menus personnalisables pour accéder à toutes les fonctionnalités et options. Un joystick monté sur le dispositif d'entrée permet une manipulation aisée des réglages de vue optique et de contrôle. Le système est également capable d'imiter des spécimens en mode champ lumineux et en mode champ sombre, offrant une excellente flexibilité. L'unité HMI eP4 est un excellent choix pour la conception et la fabrication de semi-conducteurs. Sa conception optique avancée et son interface conviviale permettent une analyse rapide, précise et fiable des défauts et une inspection des masques. La machine est applicable à une large gamme d'applications nanotech, fournissant la plus haute qualité d'imagerie et des mesures de haute précision.
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