Occasion HITACHI IS 2000 #9103910 à vendre en France

HITACHI IS 2000
ID: 9103910
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1993
Pattern defect inspection system, 8" 1993 vintage.
HITACHI IS 2000 masque et équipement d'inspection de plaquettes est un masque automatisé à haut débit et un système d'inspection de plaquettes simple qui combine une conception supérieure avec une suite avancée de masque et wafer capacités de détection des défauts. L'unité cherche à fournir les meilleurs résultats possibles pour la détection des défauts tout en minimisant l'intervention de l'utilisateur. Utilisant une technologie d'imagerie BSE/SE/Raman à haute énergie, cette machine utilise un appareil photo CCD haute résolution de 10 mégapixels (11 520 x 9 024 pixels) refroidi par Peltier et 50 mm pour produire des images de contraste élevé avec un niveau de bruit minimal. L'outil comprend également de nouveaux algorithmes avancés pour le traitement des images et la reconnaissance des fonctionnalités pour améliorer la détection des défauts. Il a une résolution d'étape de 0,6 à 0,5 μ m, une distorsion centroïde limite < 100nm et une précision pour les mesures de fond et optiquement diélectriques < 1 %. Cet actif est également capable de mesurer la longueur du défaut avec une valeur minimale de 0,1 μ m et une précision de 0,08 μ m. En plus de ses capacités supérieures de conception et de détection de défauts, le modèle est équipé d'un logiciel puissant pour assurer un fonctionnement convivial. L'équipement offre une gamme de fonctionnalités utiles, notamment : classification automatique des défauts, contrôle des points focaux, génération de modèles d'inspection, paramètres de prévention des défauts et gestion des cartes de défauts. Le système permet également d'enregistrer automatiquement les résultats de l'inspection. Le logiciel fonctionne sous Windows (7 ou plus) ce qui le rend facile à utiliser. IS 2000 Masque et Wafer Inspection Unit est conçu pour automatiser le processus d'identification des défauts, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des applications allant du contrôle de processus de niveau avancé au développement de masque ou de wafer. Sa conception de produit offre aux utilisateurs la flexibilité nécessaire pour inspecter une large gamme de masques et de plaquettes simples, offrant une solution puissante et économique pour l'inspection des masques et des plaquettes.
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