Occasion HITACHI IS 2510 #293657152 à vendre en France

HITACHI IS 2510 est un équipement avancé d'inspection des masques et des plaquettes qui fournit une inspection haute résolution et haute précision des défauts sur les masques et les plaquettes pendant le processus de production. Ce système de haute technologie est conçu pour des tâches d'inspection critiques qui nécessitent le plus haut niveau possible de qualité d'image et de précision de mesure. C'est la seule unité de sa classe à supporter l'imagerie haute résolution des Défauts de Masque et des Défauts de Wafer Sous-onde. En conséquence, il fournit le degré maximum de couverture de défaut et la capacité de détection pour les plaquettes de production et les masques. La machine est basée sur une technologie Chromatic Confocal Spot (CCS™), qui fournit une résolution et une qualité d'image supérieures pour les inspections des plaquettes. Cette technologie CCS a été prouvée pour analyser et détecter efficacement les défauts sur les surfaces de masque et de plaquette. L'outil intègre également des algorithmes avancés de reconnaissance de motifs et d'autres techniques de pointe pour produire des résultats d'image exceptionnels. IS 2510 est également équipé d'un atout robuste de gestion de base de données de défauts qui permet à l'utilisateur de créer et gérer efficacement des bases de données complètes de défauts de masque et de plaquettes. Cette base de données peut être utilisée pour rechercher et identifier rapidement les défauts sur les surfaces de masque et de plaquette. Le modèle comprend également un logiciel puissant et facile à utiliser pour l'analyse complète des défauts et l'établissement de rapports. L'équipement HITACHI IS 2510 est encore amélioré par du matériel de précision qui fournit des performances exceptionnelles pour les inspections des plaquettes et des masques. Le système comprend un étage X-Y de précision micron pour un positionnement précis du masque ou de la plaquette. Les lentilles de haute qualité offrent un excellent grossissement et une imagerie sans aberration. Et la dernière avance d'imagerie est utilisée pour fournir une imagerie supérieure des défauts de masque et de plaquette. Cette unité avancée est conçue pour répondre aux exigences de production exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs. Il est capable de détecter des défauts sur les masques et les plaquettes, offrant une couverture maximale du processus de production. Avec sa robuste machine de gestion de base de données de défauts et ses capacités d'imagerie avancées, IS 2510 facilite la détection et l'élimination des défauts pendant le processus de production.