Occasion ICOS HM-200 #293598500 à vendre en France

ID: 293598500
Style Vintage: 2007
Wafer inspection system 2007 vintage.
ICOS HM-200 est un équipement collaboratif d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour améliorer l'efficacité et la précision de la production de semi-conducteurs. HM-200 est capable d'effectuer une détection automatique des défauts en deux dimensions (2D) et en trois dimensions (3D), avec une caractérisation complète des défauts. Le système comprend des capacités de test visuelles, électriques et optiques intégrées, permettant un haut degré de couverture des défauts. ICOS HM-200 est équipé d'une unité d'optique d'imagerie haute résolution, qui permet à la machine de détecter des défauts à des niveaux comparables à ceux du microscope à force atomique (AFM). HM-200 a une surface d'exploitation allant jusqu'à 600 mm x 600 mm, et une vitesse allant jusqu'à 10 um/s, fournissant une analyse rapide et précise. Les algorithmes d'analyse d'image utilisés par ICOS HM-200 permettent de détecter automatiquement à la fois les défauts nus, ainsi que les défauts dépendants des couches. L'outil est également capable de discriminer les défauts risqués des défauts inoffensifs qui peuvent être causés par des désalignements mineurs dans les procédés de fabrication. HM-200 dispose d'un logiciel facile à utiliser, ainsi que d'une interface conviviale. L'actif comprend un catalogue complet de défauts, une interface utilisateur graphique (interface graphique), une bibliothèque de défauts, et la gestion des recettes et des rapports. La caractéristique de trace intégrée permet de mesurer avec précision la distance entre les défauts, ainsi que la largeur et la profondeur du défaut. ICOS HM-200 comprend également un modèle SINFONIA optionnel, un équipement automatique de détection et de tri des défauts de plaquettes. Le système SINFONIA permet la capture et le tri complets des défauts, avec la possibilité de définir une recette personnalisée de détection des défauts et de stocker des informations sur le type de défaut. L'unité est capable de détecter des défauts à résolution millimétrique sur des plaquettes multicouches. HM-200 fournit une solution rentable pour la production de semi-conducteurs, avec ses capacités avancées de traitement et d'analyse d'images, ainsi que sa grande vitesse et précision. La machine est conçue pour être un outil de production fiable, intuitif et facile à utiliser, offrant une approche efficace et précise de l'inspection Masque et Wafer.
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