Occasion J-MAR 010-3180-012 #9236123 à vendre en France

J-MAR 010-3180-012 Mask & Wafer Inspection Equipment est une solution d'imagerie optimisée pour les applications semi-conductrices. Ce système permet une observation et une métrologie des défauts fiables et précises sur tous les types de substrats et de matériaux. L'unité est conçue pour l'inspection de masques, de plaquettes et de couches diélectriques, ainsi que d'une gamme d'images optiques, telles que l'absorption optique, la réflectivité, la transmission et la diffraction. Il se compose de trois composants : un microscope optique, un filtre spectral et une caméra numérique. Le microscope optique fonctionne avec une lentille à tige NA 1.4 qui fournit une image haute résolution du substrat ou du matériau à une échelle d'image et un foyer différents. Il est également équipé d'une machine d'éclairage à longue portée pour une meilleure disponibilité de l'image. Une approche FFT avancée (transformée de Fourier rapide) est intégrée pour améliorer le contraste, la faible distorsion et l'excellente résolution d'imagerie. Le filtre spectral est utilisé pour éliminer les fréquences indésirables de la lumière transmise, permettant la détection de traits tranchants avec une détection améliorée. Le filtre offre également une large gamme spectrale allant de l'ultraviolet visible (UV) au proche infrarouge (NIR), en résolvant les images sous-microns, grandes et petites. L'appareil photo numérique fournit une image détaillée et haute résolution. Il est configuré avec une puce CCD intensifiée pour une sensibilité et une dynamique accrues, permettant une meilleure détection des petits défauts. La caméra peut être utilisée pour capturer des images uniques ou de longues séries d'images, permettant à l'utilisateur de surveiller et d'identifier des structures de défauts précises sur une longue période de temps. En outre, l'outil est équipé d'outils avancés de traitement d'image, tels que des algorithmes de reconnaissance des défauts, de caractérisation des défauts et d'analyse des défauts. Les résultats peuvent ensuite être analysés pour déterminer la cause première des défauts. J-MAR 010-3180-012Mask & Wafer Inspection Asset offre une solution haute performance et peu coûteuse avec sa combinaison de capacités d'imagerie avancées et d'outils de traitement de réimmatriculation. Ce modèle permet la détection et la caractérisation des défauts pour les applications de traitement et de contrôle de la qualité. Avec la capacité de fournir des résultats précis et fiables, 010-3180-012 Masque et Wafer Inspection Equipment est une solution fiable pour l'inspection des défauts de masques et wafers.