Occasion J-MAR S2610-01-01 #9211242 à vendre en France

ID: 9211242
CMM Inspection system (3) Light sources XYZ Table (2) Objectives Controller 20011 Computer without RAM memory (2) Modules 1GB RAM.
J-MAR S2610-01-01 est un masque de haute précision et un équipement d'inspection des plaquettes utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce système utilise une optique avancée, des lasers et des techniques d'inspection logicielles automatisées pour mesurer et détecter avec précision les défauts dans un large éventail de matériaux avancés tels que les plaquettes de silicium, le masque et les interconnexions. L'unité est équipée d'une variété de capteurs, y compris une caméra CCD microscopique avec une résolution 1024x1024. Cette caméra haute résolution permet à l'opérateur de détecter même les plus petits défauts de surface jusqu'à l'échelle du nanomètre. De plus, une machine laser confocale parallèle de 0,05 micron tache est incluse pour des mesures très précises. L'outil dispose également d'une technique d'optique propriétaire connue sous le nom de Laser Beam Stripping (LBS), qui peut détecter même les couches les plus minces de matériau aussi mince que 0,1 microns. L'actif est alimenté par un logiciel sur mesure appelé WIP Control Model (WIPCS). Ce logiciel offre à l'utilisateur des capacités de détection de défauts puissantes et précises, y compris l'adaptation des motifs, l'analyse de forme 3D et l'analyse de l'ajustement optimal. Cela garantit que même les processus les plus sophistiqués, tels que l'électro-photographie (faisceau E) et la lithographie avancée, peuvent être contrôlés avec précision et efficacité. En combinaison avec sa technologie avancée d'optique et de détection, S2610-01-01 équipement est également équipé de fonctionnalités de contrôle automatisé de processus avancées. Ces caractéristiques garantissent un fonctionnement fiable et efficace de tous les processus. L'automatisation contrôlée et l'intégration de ces fonctions permettent de réduire les coûts opérationnels et d'améliorer les rendements des processus. Enfin, ce système est accompagné d'une suite de logiciels d'analyse de données pour l'évaluation détaillée de la surveillance des défauts, des mesures de caractéristiques et d'autres variables de processus critiques. Cette analyse garantit la production de produits de la plus haute qualité avec une efficacité maximale. En résumé, J-MAR S2610-01-01 est un masque de haute technologie et une unité d'inspection des plaquettes qui utilise la combinaison d'optiques de pointe, de lasers et de techniques d'inspection logicielle automatisée pour détecter et mesurer avec précision les défauts jusqu'à l'échelle du nanomètre. Il est également équipé de fonctions de contrôle de processus et de logiciels d'analyse de données pour une production optimale. Cette machine est idéale pour les procédés avancés tels que le faisceau E et la lithographie avancée.
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