Occasion KLA / ICOS CI 9450 #9156476 à vendre en France

KLA/ICOS CI 9450 est un équipement d'inspection des masques et des plaquettes spécialement conçu pour l'imagerie et l'analyse de haute précision des photomasques et des plaquettes qui sont utilisés pour la lithographie des semi-conducteurs. Le système utilise des techniques optiques de pointe dans le cadre de sa stratégie d'imagerie et d'analyse, y compris l'éclairage laser, l'optique avancée et les mécanismes d'étage contrôlés par ordinateur. L'unité dispose d'un appareil photo de 4 mégapixels avec une capacité d'imagerie haute résolution, permettant l'observation précise des caractéristiques de ligne fine sur les photomasques et les plaquettes. Il utilise une machine d'éclairage annulaire à six quadrants pour fournir un éclairage précis et uniforme sur tout le champ de vision. La source lumineuse et le collimateur permettent une sélection et un contrôle faciles des angles et intensités d'éclairage diffus et laser. Le réseau de détecteurs de 91 mégapixels fournit une imagerie haute résolution en mode lumineux et en mode champ sombre. Cela permet de mesurer avec précision les dimensions critiques des caractéristiques électriques. Une caméra ccd monochrome haute résolution est également utilisée pour inspecter les motifs d'adresses sur la plaquette. Le réseau de détecteurs permet également de capturer des images de motifs sous différents angles et échelles d'éclairage. L'outil intègre également un certain nombre d'algorithmes avancés pour fournir une analyse détaillée des images de masque ou de plaquette. Cela comprend la reconnaissance optique des caractères, l'amélioration faible du contraste, l'examen de faible exposition, et l'affûtage d'image. L'actif dispose également d'un certain nombre de processus automatisés pour analyser les images. Il s'agit notamment de la classification automatique des plaquettes, de l'identification automatique des défauts, de la détection automatique des puces défaillantes et de la numérisation automatique des foyers. Le modèle peut également générer des rapports d'inspection des défauts. En plus de l'imagerie et de l'analyse, l'équipement peut être utilisé pour la vérification du masque de pré-production et le contrôle du processus. Il permet également la comparaison entre plaquettes et masques pour maximiser l'efficacité et la précision. En conclusion, le système KLA CI 9450 est un instrument très sophistiqué et précis conçu pour l'inspection des masques et des plaquettes. Il utilise des techniques optiques avancées et des algorithmes pour fournir une imagerie haute résolution et une analyse détaillée des motifs de lithographie des semi-conducteurs. En outre, il intègre une variété de processus automatisés pour l'analyse rapide et précise des données.