Occasion KLA / ICOS CI 9450 #9230345 à vendre en France

KLA/ICOS CI 9450 Masque et Wafer Inspection Equipment est un microscope semi-automatisé conçu pour l'examen visuel détaillé des masques et des wafers dans une large gamme de dimensions critiques. Elle est particulièrement utile pour inspecter des structures définies de contact et de trou traversant sur des couches de dispositifs actifs de plaquettes semi-conductrices, de couches minces et de dispositifs MEMS. Le système est équipé d'une optique numérique haute résolution enrichie en données, d'une source de lumière allant des UV à l'infrarouge, et d'une gamme de capacités de filtrage. Il a la capacité de révéler avec précision les défauts et les caractéristiques jusqu'à un micron de taille. Le champ lumineux intégré, le champ sombre, et les modes de couleur RVB offrent un contraste amélioré pour aider à la détection de patters et de motifs subtils. Une grande surface de travail de 50mm permet aux utilisateurs de travailler avec de plus grands échantillons, tandis que la grille intégrée compense la distorsion de l'échantillon. KLA CI 9450 offre également des capacités de mesure automatisées personnalisées pour les régions d'intérêt, ce qui permet aux utilisateurs de gagner du temps par rapport aux techniques de mesure manuelle. Il est également équipé de capacités de transfert de données à grande vitesse pour le téléchargement rapide des données des PC hôtes et des connexions réseau. Cela aide à automatiser la capture d'image et le traitement et l'analyse subséquents de l'image. ICOS CI-9450 intègre un cadre physique isolé optiquement pour prévenir les interférences sonores et réduire la maintenance de l'unité. Il comprend également un ASIC pour aider à réduire le temps d'intégration de la machine avec le mode de scan étape-répétition intégré. Cela permet de rendre l'outil capable de contrôler en continu la qualité de la production à haut volume. Globalement, KLA CI-9450 Mask & Wafer Inspection Asset est un outil avancé et accessible pour le contrôle de la qualité et l'imagerie des semi-conducteurs, des couches minces et des MEMS. Sa conception et ses fonctionnalités intègrent une gamme d'outils pour aider les utilisateurs à identifier rapidement les défauts potentiels dans les échantillons, ainsi que de mesurer avec précision la taille et l'emplacement des fonctionnalités avec des mesures automatisées personnalisées. Ses performances et ses capacités de transfert de données garantissent des résultats de haute qualité, de haut débit et factuels.