Occasion KLA / ICOS CI 9450 #9244496 à vendre en France

KLA/ICOS CI 9450 Masque et Wafer Inspection Equipment est un masque de surface optique haute performance CCD et Wafer Inspection System conçu pour effectuer l'inspection des défauts à la fois de photomasque avancé et de surface de wafer. L'unité assure une résolution et une productivité d'inspection maximales. La machine est basée sur un outil d'imagerie optique avancé qui se compose de deux caméras CCD monochromes haute résolution, l'une avec grossissement en ligne droite et l'autre avec imagerie diascopique. Les deux caméras offrent un champ de vision optimal et sont équipées de champs d'inspection programmables, d'éclairage sur axe et hors axe et de techniques d'imagerie avancées telles que le déphasage, l'identification et le réglage des couleurs. Les caméras sont reliées à une station de traitement/visualisation d'images qui permet la manipulation d'images. Le processeur est équipé d'une variété de logiciels qui permettent à l'utilisateur de localiser, identifier et évaluer les défauts. Il permet également à l'utilisateur d'inspecter différentes régions du masque ou de la plaquette et d'acquérir les images d'intérêt. En outre, le logiciel peut calculer la densité des défauts et les stocker dans une base de données embarquée pour une analyse future. L'actif est conçu pour fonctionner à haute efficacité et peut atteindre des vitesses d'inspection allant jusqu'à 100 wafers par heure avec une précision allant jusqu'à 0,1 µm. Il est équipé d'un Ethernet sécurisé pour l'accès à distance afin que l'utilisateur puisse le contrôler de n'importe où dans le monde. Le modèle est livré avec une variété de fonctionnalités conviviales telles qu'une interface utilisateur intuitive, l'intégration complète avec FOUP et LOT, la soumission et la recherche d'emploi rapide, l'enregistrement des erreurs, et l'isolement des défauts en temps réel. En outre, l'équipement est entièrement compatible avec les derniers systèmes de lithographie et de métrologie et compatible avec une variété de formats de photomasques et de plaquettes. Il est conforme aux normes de l'industrie et offre en option la classification des images, la génération de rapports d'inspection et l'analyse de forage. Dans l'ensemble, KLA CI 9450 Mask & Wafer Inspection System est une unité complète et complète qui fournit à l'utilisateur des capacités d'imagerie haute résolution ainsi que des logiciels avancés pour permettre l'inspection des défauts de pointe des surfaces de photomasque et de wafer.