Occasion KLA / ICOS CI 9450 #9263039 à vendre en France

KLA/ICOS CI 9450 est un masque haute performance et un équipement d'inspection de plaquettes. Il est largement utilisé dans les industries des semi-conducteurs et des optoélectroniques, offrant des solutions complètes, rentables et automatisées d'inspection optique pour garantir une qualité optimale des dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Le système KLA CI 9450 est basé sur l'interférométrie lumineuse vive et fournit une inspection haute résolution et rapide des structures des plaquettes et des masques à semi-conducteurs. Il fonctionne dans la gamme UV, permettant aux utilisateurs d'inspecter de très petites géométries sans sacrifier la qualité d'image. L'unité peut détecter des défauts aussi petits que 0,005 microns de taille, le rendant extrêmement sensible. De plus, la machine peut inspecter des substrats de 8 à 200 mm de large avec une plage dynamique allant jusqu'à 61 dB. ICOS CI-9450 est équipé d'un large éventail d'outils et de fonctionnalités qui lui permettent de détecter et d'analyser avec précision divers types de défauts. Il dispose d'une optique avancée, telle que l'optique à quartz, qui offre un contraste élevé et un éclairage uniforme, ainsi qu'une compensation de champ électromagnétique pour une précision accrue, même en présence de champs électriques externes. L'outil comprend également des algorithmes automatisés de détection et d'analyse des défauts, ainsi que des logiciels de visualisation des données acquises, permettant aux utilisateurs d'analyser facilement leurs défauts. En outre, KLA CI-9450 comprend une interface utilisateur intuitive, conçue ergonomiquement pour faciliter le fonctionnement et la navigation. L'interface de fonctionnement visuel et de contrôle permet une programmation, une configuration et un contrôle rapides et pratiques. En outre, l'actif est adapté à une utilisation flexible, car il peut être facilement adapté à l'évolution des conditions ou des exigences. CI 9450 fournit une solution robuste, fiable et à long terme pour l'inspection des masques et des plaquettes, offrant aux utilisateurs la capacité de détecter et d'analyser un large éventail de défauts avec une grande précision et une vitesse opérationnelle. Il s'agit d'une solution rentable et efficace pour la fabrication et le contrôle de la qualité des semi-conducteurs et des optoélectroniques.