Occasion KLA / ICOS CI 9450 #9384067 à vendre en France

KLA/ICOS CI 9450 masque et wafer inspection equipment est un système de métrologie automatisé conçu pour inspecter les masques et wafers semi-conducteurs. L'unité est capable de mesurer les tailles et les formes des caractéristiques, de vérifier les bonnes et les mauvaises matrices, et de fournir une révision manuelle et automatique complète des défauts sur une large gamme de plaquettes. KLA CI 9450 est équipé d'une paire de systèmes optiques rotatifs qui permettent aux utilisateurs de capturer une large gamme d'images et de diagrammes d'une plaquette. La première machine optique est constituée de plusieurs caméras capables de capturer des images uniques pour inspection. Le deuxième outil optique est une caméra grand angle intégrée qui permet des images de grossissement élevé de la taille des fonctionnalités. ICOS CI-9450 est équipé d'un puissant processeur d'image numérique (DIP) qui effectue une grande variété de tâches de recherche, d'imagerie et d'analyse. Le DIP est capable de capturer des centaines d'images en un seul cycle et d'utiliser un algorithme logiciel propriétaire pour les trier en groupes ou en plages pour un examen plus approfondi. L'actif dispose d'une interface utilisateur graphique intuitive qui rend le processus de manipulation des données facile et efficace. Le modèle est capable de mesurer des structures de sous-microns sur le masque ou la plaquette, tels que des trous métalliques, des TSV, des lignes de sous-quart de micron, et des motifs. Il a également la capacité de détecter les défauts complexes tels que les nanopatuches, les défauts de la couche de masque, les défauts de bord, les particules, les rayures et les matériaux étrangers. De plus, KLA/ICOS CI-9450 peut détecter les défauts d'uniformité dans les masques et les plaquettes, ainsi que détecter et identifier les mauvais décès sur les plaquettes. KLA CI-9450 dispose d'un boîtier compact et robuste avec un certain nombre de caractéristiques ergonomiques, ce qui fait de l'équipement un encliquetage pour la mise en place et le fonctionnement. Un ventilateur intégré maintient l'optique au frais et aide à maintenir les systèmes optiques. Son système optique haute résolution peut également être utilisé pour inspecter des échantillons qui sont montés sur des surfaces non planes, de sorte que les utilisateurs peuvent inspecter des échantillons qui ne sont pas parfaitement plats. En conclusion, le masque et l'unité d'inspection des plaquettes CI 9450 est une machine fiable et robuste qui convient parfaitement pour une métrologie et une analyse des défauts rapides et précises des sous-microns. Ses systèmes optiques intégrés, DIP et son interface graphique intuitive permettent aux utilisateurs d'inspecter facilement les masques et plaquettes à semi-conducteur avec une grande précision et un débit élevé.