Occasion KLA / ICOS CI 9450 #9389733 à vendre en France

KLA/ICOS CI 9450 Masque et Wafer Inspection Equipment est une solution complète pour l'inspection automatisée masque et wafer. Il dispose d'une gamme d'outils de traitement et d'analyse d'images de haute performance pour la détection rapide et fiable des défauts, permettant la reconnaissance et l'affichage rapides des problèmes. Le système est bien adapté aux résultats des plaquettes avant et arrière, ainsi qu'aux applications de lithographie. Il peut fournir un débit élevé et une inspection de haute précision des masques lithographiques et des plaquettes dans un large éventail d'industries, y compris la fabrication d'ordinateurs et de semi-conducteurs. L'unité KLA CI 9450 est basée sur un capteur d'image et un paquet d'algorithmes CMOS, développés à partir du sol pour fournir les plus hautes performances pour la détection des défauts. Ses capacités avancées permettent une optimisation complète de l'ensemble du processus d'inspection, de l'achèvement des paramètres d'inspection de base à la reconnaissance automatique efficace des différents types de défauts et de leurs domaines de responsabilité respectifs. La machine utilise une série de capteurs d'image différents pour capturer des images à différents moments et pour refléter différents niveaux de résolution d'image et de plage dynamique. Cela permet une évaluation rapide des défauts et une diminution des faux positifs. Elle permet également de détecter avec précision des défauts mineurs qui peuvent être mal compris lors de l'inspection manuelle. L'outil ICOS CI-9450 permet de surveiller les micro-défauts, les caractéristiques et les défauts d'enregistrement lithographique dans différents modes de couleur. Il dispose d'une fonctionnalité automatisée de piquage d'images pour fournir un niveau de précision plus élevé dans la détection des défauts et des anomalies dans une zone plus large, sans la supervision de l'opérateur. L'actif possède également un large éventail de caractéristiques pour la classification et l'analyse des défauts. Il est capable d'analyser les images pixel par pixel, contribuant à éliminer les faux positifs et à réduire le temps nécessaire pour repérer l'erreur. En outre, il dispose d'un modèle d'analyse CAO/Etch-Back pour traiter des cas complexes tels que la taille de contact spécifique, les fils en surplomb ou les caractéristiques TEM transversales. CI-9450 les équipements utilisent également des rapports de profil avancés, permettant une comparaison aisée entre différents ensembles de points de données. Ceci peut être utilisé pour améliorer le débit et optimiser les paramètres de configuration de l'inspection. De plus, ses capacités Level-Set et Structured-Light permettent d'inspecter même les masques, plaquettes et substrats les plus compliqués, augmentant encore une fois la précision de la détection des défauts. Le système KLA/ICOS CI-9450 est une excellente solution pour les applications d'inspection de masques et de plaquettes dans l'industrie électronique. Sa combinaison de capacités avancées d'automatisation et d'imagerie le rend capable d'effectuer une détection rapide et fiable des défauts sur une variété de tâches. Avec sa flexibilité et sa précision, l'unité fournit aux utilisateurs un masque complet et fiable et une machine d'inspection des plaquettes.