Occasion KLA / ICOS CI 9450 #9396597 à vendre en France
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Le KLA/ICOS CI 9450 est un équipement perfectionné d'inspection automatisée des masques et des plaquettes conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il offre des capacités telles que l'acquisition d'images à haute vitesse, l'examen automatisé des défauts et la métrologie du masque. Le système utilise la technologie optique de pointe pour permettre des mesures précises et des images à haute résolution de motifs lithographiques, fournissant un moyen fiable de détecter les défauts et les non-conformités sur les masques de plaquettes et les plaquettes finies. L'unité comprend deux composantes : l'unité d'inspection Wafer (WIF) et la machine d'acquisition et de révision d'images corrélatives de l'UCK (CIARS). Le WIF est responsable de l'acquisition et du traitement des images haute résolution du masque ou de la plaquette inspecté. Le WIF peut acquérir des images à des vitesses allant jusqu'à 60 secondes par plaquette, ce qui permet des inspections rapides et efficaces. Il est équipé d'une variété de lentilles, lui permettant de capturer différents champs de vues. Une variété de formats d'image sont pris en charge, permettant une comparaison facile entre les images. Le composant CIARS gère l'examen du masque ou de la plaquette, en utilisant un algorithme propriétaire de détection des défauts pour mettre en évidence les défauts et les non-conformités. L'outil utilise la détection d'arêtes sous-pixel combinée à la reconnaissance de motifs basée sur des règles pour détecter et classer les défauts. L'actif CIARS peut être configuré pour un large éventail de champs et d'applications, ce qui permet une flexibilité dans les configurations. En outre, il prend en charge plusieurs langages pour une base d'utilisateurs plus large. KLA CI 9450 offre une large gamme de caractéristiques et d'avantages. Il fournit des capacités d'imagerie haute résolution avec des vitesses d'acquisition d'image rapides. Il dispose également d'une révision automatisée des défauts et masque les capacités de métrologie, permettant de repérer les défauts de manière efficace et précise. En outre, il offre une large gamme de configurations personnalisables, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications et d'utilisateurs. Le modèle est conçu pour être facile à utiliser et à entretenir, assurant des performances fiables et des temps d'arrêt minimisés.
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