Occasion KLA / ICOS CI-G10 #293591822 à vendre en France

KLA/ICOS CI-G10 est un équipement d'inspection de masque et de wafer utilisé pour répondre aux exigences haut de gamme et de haute performance de l'industrie des semi-conducteurs. Le système est utilisé pour inspecter les caractéristiques critiques et surveiller les modèles intégrés dans les masques et les photomasques. Il est doté d'une technologie optique de pointe, d'un algorithme de traitement d'image avancé, d'une révision intégrée des défauts et d'une gestion des métadonnées pour soutenir l'image. La performance et la capacité d'inspection de ce masque et de cette unité d'inspection des plaquettes permettent de l'utiliser pour l'inspection des schémas les plus complexes, y compris l'inspection des applications logiques, de la mémoire et des signaux analogiques/mixtes. En outre, la machine peut être utilisée dans les lignes de production ainsi que dans la recherche et le développement. L'unité est équipée d'un positionneur entièrement automatique (FADP) pour un positionnement facile et précis des échantillons. Le FADP est également supporté par un alignement d'étage qui permet un alignement automatique ou manuel. Cela garantit que l'échantillon est toujours positionné sur le champ de vision pour une inspection précise. La technologie optique avancée et les technologies logicielles intégrées de cet outil fournissent des images haute résolution, un contraste clair et un éclairage lumineux et uniforme dans tout le champ de vision. Cela garantit une large plage d'inspection, tout en minimisant le bruit des pixels et en fournissant des rapports de contraste jusqu'à 10 000:1. En fournissant un éclairage optimisé, la détection même des défauts les plus fins est rendue possible. L'actif est également équipé d'un modèle intégré et complet d'examen des défauts et de gestion des métadonnées. Cela permet aux utilisateurs d'examiner et de gérer facilement les images et métadonnées inspectées. En outre, l'équipement peut fournir des statistiques sur le rendement, le comptage des défauts, l'isolabilité des défauts et l'efficacité de détection des défauts. KLA CI-G10 est un système d'inspection Masque et Wafer hautement capable de fournir des inspections vérifiables et répétables. Ses capacités supérieures d'optique et d'imagerie haute résolution, ses capacités intégrées d'examen des défauts et ses algorithmes d'imagerie avancés en font un excellent choix pour les laboratoires de production et de recherche et développement.