Occasion KLA / ICOS CI-T120 #293660494 à vendre en France
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KLA/ICOS CI-T120 masque et wafer inspection equipment est une solution de métrologie avancée conçue pour réduire les coûts de contrôle de la qualité et le temps de processus dans la fabrication de semi-conducteurs. Il utilise des technologies d'imagerie haute résolution et de numérisation 3D pour fournir une analyse rapide et de haute précision des dispositifs de masque et de wafer. Avec un grand champ de vision et une cartographie automatisée des plaquettes, le système offre un meilleur débit, précision et rendement de processus. KLA CI T120 comprend une large gamme d'outils et de capteurs interchangeables, dont un module de focalisation automatisé, une unité de métrologie de surface 3D et une machine d'imagerie haute résolution. Avec le module de mise au point, il peut effectuer des mesures rapides et précises des dimensions critiques (CD), du recouvrement et des structures verticales. Une imagerie haute résolution permet à l'outil de fournir une cartographie rapide des plaquettes et une métrologie de surface 3D inégalée. Grâce à ses capacités multi-focus et multi-view, l'actif peut être configuré pour une gamme de tailles de plaquettes et de formats de masques, et son interface utilisateur intuitive facilite la navigation et le contrôle. ICOS CI T-120 dispose de recettes de processus automatisées et d'analyses de données fiables qui réduisent le temps de configuration et l'erreur de l'opérateur. La cartographie automatisée des plaquettes permet aux utilisateurs de visualiser rapidement et précisément n'importe quelle partie d'un appareil, tandis que les analyses automatiques et la génération de rapports améliorent le contrôle des processus. Son outil intégré d'examen et de rapport des défauts contribue à améliorer la fiabilité et le rendement des processus. Dans l'ensemble, le modèle de masque et d'inspection de plaquettes CI T-120 est une solution avancée, de haute précision et rentable pour les fabricants de semi-conducteurs. Avec sa gamme d'outils et de capteurs interchangeables, ses processus automatisés et ses capacités de collaboration, il permet aux utilisateurs d'atteindre les plus hauts niveaux de précision, de débit et de rendement de processus.
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