Occasion KLA / ICOS CI-T120 #293792882 à vendre en France

KLA/ICOS CI-T120 est un masque haute performance et un équipement d'inspection de plaquettes conçu pour l'environnement fab. Intégrant des technologies avancées d'optique, de laser et d'imagerie, KLA CI T120 est conçu avec une intelligence pilotée par les données pour la détection précise des défauts sur masque et sur plaquette. Son système d'interférométrie laser éclairé (LIS) permet une imagerie non destructive et à haute résolution des topographies de surface (TES) pour une détection et une classification précises des défauts. ICOS CI T-120 dispose d'une gamme améliorée de filtres et de lentilles permettant un éclairage ultra-rapide de l'inspection ligne par ligne ou zone matricielle de zones supérieures à 8 400 millimètres carrés (mm2). KLA CI-T120 contient également un puissant moteur de traitement d'image pour l'analyse complète d'image. Sa bibliothèque intégrée d'algorithmes d'intelligence artificielle axés sur les données peut détecter les micro-défauts et les classer en groupes distincts de taille, d'intensité et de topologie. De plus, CI T-120 est équipé d'un algorithme très sensible de reconnaissance des motifs d'inspection (DPI) pour détecter tous les types de défauts de pont et de semi-pont. L'algorithme de DPI est capable de reconnaître et de mesurer même les plus petits défauts - jusqu'à 50 nanomètres (nm) - en reconnaissant et isolant les défauts tels que les ponts cassés ou manquants, les déviations et les défauts de maille. ICOS CI T120 est conçu pour simplifier les processus d'inspection des masques et des plaquettes. L'unité clé en main permet une installation et un étalonnage rapides et faciles, tandis que son logiciel automatisé permet une collecte et une imagerie rapides. Il permet également l'inspection complète des grandes plaquettes à une vitesse allant jusqu'à 3,3 plaquettes par heure. En outre, ses systèmes de surveillance interne aident à réduire les temps d'arrêt de l'équipement en fournissant des retours de performance et des diagnostics en temps réel. CI-T120 répond ou dépasse les normes américaines et internationales pour la détection fiable des défauts, ainsi que les exigences pour le faible risque de particules. En outre, cette machine contribue à réduire le besoin d'étapes de post-traitement coûteuses, car ses détections de défauts supérieures permettent de s'assurer que les plaquettes et masques de haute qualité répondent aux exigences de fabrication. En outre, l'outil fournit des données statistiques complètes et des données de contrôle de la qualité pour faciliter l'analyse et l'établissement de rapports. CI T120 est un excellent choix pour les opérations de fabrication de semi-conducteurs et de photomasques nécessitant des solutions d'inspection fiables et rentables. Avec sa combinaison de technologies avancées d'optique, d'imagerie et d'intelligence artificielle, KLA CI T-120 est une solution idéale pour atteindre un contrôle de qualité supérieur.