Occasion KLA / ICOS CI-T120 #9407127 à vendre en France

KLA/ICOS CI-T120 est un équipement automatisé d'inspection des masques et des plaquettes qui permet une inspection visuelle de haute précision des photomasques, des masques microvia et des plaquettes semi-conductrices jusqu'à 10 000 x grossissement. En utilisant la dernière optique haute résolution, KLA CI T120 fournit un contrôle automatisé des défauts et la mesure de la contamination des particules sur les plaquettes et les photomasques à motifs. Le système dispose d'un microscope optique équipé de caméras CCD et d'algorithmes avancés de traitement d'images qui permettent une détection, une classification et une analyse des défauts de wafer et de masque de haute précision en quelques minutes. La fonction d'auto-alignement assure l'enregistrement précis des images, tandis que les paramètres de traitement des images peuvent être optimisés pour différents types de défauts. Grâce à la flexibilité de l'unité, elle peut supporter des exigences changeantes ou en expansion, telles que des lots de production multiples et des critères de recherche de défauts variables. ICOS CI T-120 intègre des capacités d'automatisation avancées pour rationaliser les tâches d'inspection. Les caractéristiques d'autofocus et d'autocorrection assurent une détection fiable des particules opaques et d'autres défauts des surfaces difficiles. Le logiciel intuitif fournit une interface facile à utiliser avec des fonctions de recherche puissantes pour trouver rapidement des types de défauts spécifiques. Les fenêtres glisser-déposer peuvent être utilisées pour comparer les distinctions d'image et réarranger pour répondre rapidement et précisément aux critères d'inspection. Les capacités avancées de la machine en matière de contamination et de suivi des défauts sont conçues pour réduire les temps de cycle et aider à garantir les performances des plaquettes, des masques et des rendements. L'outil de rapport complet génère automatiquement une analyse détaillée des données quantitatives sur les défauts telles que la qualité, la superficie, le nombre et la taille, tandis que les options de menu intégrées permettent aux utilisateurs d'examiner, d'analyser et d'exporter les données en quelques secondes seulement. Le masque KLA CI-T120 Masque et Wafer Inspection Asset robuste et précis offre la flexibilité et l'automatisation nécessaires pour gérer facilement les besoins changeants et en expansion. Avec sa combinaison d'optique haute résolution et de traitement d'image avancé, CI T120 permet une inspection très précise des plaquettes et des photomasques, avec détection et classification rapides des défauts. Le logiciel intuitif du modèle, accompagné de fonctionnalités d'automatisation avancées, garantit des résultats rapides et fiables - aidant les clients à optimiser leur processus de production et à garantir une qualité de produit supérieure.