Occasion KLA / ICOS CI-T1X0 #9351871 à vendre en France

KLA/ICOS CI-T1X0 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Il est spécifiquement utilisé pour l'inspection de motifs formés sur les masques et plaquettes utilisés dans le procédé de fabrication de IC. Le système comprend plusieurs composantes, dont la reconnaissance automatisée des motifs, les inspections de surface, les mesures de profil, les mesures de recouvrement, les douches de refroidissement et les sources lumineuses. La reconnaissance automatisée de motifs dans l'unité KLA CI-T1X0 est utilisée pour déterminer la présence d'éventuels défauts dans le masque et les plaquettes. Il examine un large éventail de caractéristiques, telles que les contacts, les vias, les résistances et les condensateurs. Il recherche également des défectueux et des contaminants sur les surfaces et les bords des plaquettes. Les inspections de surface servent à identifier les défauts ou les matières étrangères présentes sur les surfaces du masque et des plaquettes. Ces surfaces peuvent être inspectées à travers une gamme de grossissements en utilisant des techniques d'inversion de champ lumineux, de champ sombre et de contraste. Les mesures de profil peuvent être utilisées pour mesurer les variations d'épaisseur et d'épaisseur des masques et plaquettes. Ces mesures sont également utilisées pour déterminer les relations entre les différentes couches de matériaux et les substrats, ainsi que les éventuels vides ou autres discontinuités. Les mesures de recouvrement sont utilisées pour mesurer l'alignement des différents matériaux et masques utilisés dans le procédé de fabrication du CI. Il permet également de s'assurer que les différentes couches sont bien collées entre elles. Les douches de refroidissement sont utilisées pour garder le masque et les plaquettes au frais pendant le processus d'inspection. Cela permet de réduire le risque de dommages thermiques aux matériaux. Enfin, les sources lumineuses de l'ICOS CI T1X0 sont conçues pour éclairer les matériaux à différentes longueurs d'onde. Ceci permet une analyse détaillée des masques et plaquettes, révélant les défauts ou impuretés présents. Dans l'ensemble, KLA/ICOS CI T1X0 masque & wafer inspection machine est un outil inestimable utilisé pour assurer la qualité des circuits intégrés produits par le procédé de fabrication IC. Grâce à sa reconnaissance automatisée des motifs, aux inspections de surface, aux mesures de profil, aux mesures de recouvrement, aux douches de refroidissement et aux sources lumineuses, l'outil peut détecter avec précision les défauts présents dans les IC.