Occasion KLA / ICOS WI-2280 #293630246 à vendre en France

L'équipement KLA/ICOS WI-2280 Mask & Wafer Inspection est une plate-forme d'inspection optique automatisée (AOI) conçue pour la détection et l'analyse avancées des défauts. C'est une plateforme entièrement configurable et extensible qui permet des stratégies et des paramètres d'inspection personnalisés, et fournit les résultats d'inspection les plus précis. Les principaux composants du système comprennent une caméra CCD haute résolution, une optique haute résolution, un logiciel intelligent de reconnaissance et d'analyse d'images, un étage de plaquettes avec alignement double axe et une technologie de calibration ultra-précise brevetée. La caméra CCD fournit des images haute résolution avec une taille de pixel minimale de 3,2 µm, tandis que l'optique haute résolution fournit une grande profondeur de champ. L'unité utilise la technologie de capture d'images 3D pour capturer numériquement des images détaillées des appareils sur la plaquette. Le logiciel de reconnaissance d'image analyse ensuite chaque image pour déceler les défauts, tant sur la surface que sous la surface. Il peut détecter des défauts aussi petits que 4 µm, ce qui lui permet d'identifier avec précision les défauts des plaquettes qui ne seraient pas visibles à l'œil humain. L'étage de plaquette est une machine d'alignement à deux axes qui offre une précision de sous-microns lors du positionnement et de l'alignement de la plaquette. Ceci garantit que la plaquette est bien alignée avant de capturer les images. La technologie d'étalonnage ultra-précise brevetée garantit que les paramètres d'inspection sont corrects et que l'outil fournit toujours des résultats précis et fiables. L'actif est livré avec une gamme d'outils logiciels qui permettent à l'utilisateur de personnaliser les stratégies d'inspection, de fixer des seuils pour les limites de défauts acceptables, et de surveiller les résultats. Le logiciel d'analyse effectue également une analyse des résultats finaux et fournit une rétroaction à l'utilisateur. Le modèle KLA WI-2280 est parfait pour les inspections à haut volume, offrant une identification efficace et rapide des défauts, et des résultats extrêmement précis. Il est capable d'identifier un large éventail de défauts et peut être utilisé pour inspecter une variété de structures telles que des lignes métalliques, des dispositifs actifs, des contacts et trop dangereux à mesurer (TDTM). L'équipement ICOS WI-2280 Mask & Wafer Inspection est idéal pour une large gamme d'applications critiques, offrant des performances et une précision supérieures à un prix abordable. Sa technologie de pointe offre un processus hautement productif et sans défaut pour les exigences d'inspection les plus exigeantes.