Occasion KLA / TENCOR 0116358-001-REV A #293649651 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR 0116358-001-REV A 'Mask & Wafer Inspection' est un système d'inspection des plaquettes et des réticules avec une optique à double caméra et une taille de pixel de (20µm) pour fournir des résultats de pointe de l'industrie en métrologie. L'unité est composée de plusieurs composants dont une caméra couleur à fort grossissement, une machine d'imagerie à haute dynamique (HDR), un étage d'échantillonnage avec mouvement à grande vitesse, et une variété de logiciels spécialisés. La caméra couleur à fort grossissement permet une inspection et une analyse détaillées des surfaces et des défauts des plaquettes non structurées et non structurées. En outre, la caméra fournit une imagerie haute résolution qui permet l'analyse quantitative des défauts isolés ainsi que la détection automatique des bords. L'outil d'imagerie dynamique offre une sensibilité accrue aux défauts, permettant une analyse plus détaillée. Cet atout est conçu pour reconnaître les détails de bord et les caractéristiques locales avec l'aide d'une variété d'algorithmes spécialisés, fournissant une meilleure compréhension de l'échec de processus dans la fabrication de semi-conducteurs. L'étape d'échantillonnage offre une gamme de mouvements à grande vitesse, permettant une inspection rapide et précise des volumes élevés de plaquettes. Chaque segment de l'étage échantillon est composé de deux moteurs linéaires, assurant un mouvement extrêmement rapide et précis. En plus du matériel de KLA 0116358-001-REV A, il existe divers logiciels spécialisés conçus pour fournir des résultats complets en métrologie. Le logiciel comprend des systèmes d'examen et de classification des défauts, d'inspection des défauts, de cartographie des défauts, de mesure des plaquettes et d'analyse des images. En outre, les algorithmes automatisés permettent une génération efficace et précise de cartes de plaquettes avec un temps et un coût réduits. Dans l'ensemble, le modèle TENCOR 0116358-001-REV A 'Mask & Wafer Inspection' est conçu pour fournir des mesures précises et à haute résolution tout en réduisant les temps de cycle et les coûts. Ses fonctionnalités puissantes et ses logiciels spécialisés fournissent des résultats complets en métrologie, fournissant une compréhension complète de l'échec de processus dans la fabrication de semi-conducteurs.