Occasion KLA / TENCOR 2111 #9082266 à vendre en France

KLA/TENCOR 2111 est un équipement d'inspection des masques et plaquettes de pointe de KLA Corporation qui utilise l'optique de projection pour détecter les défauts sur les circuits intégrés très denses. Le système utilise des techniques de calcul avancées pour fournir une précision inégalée dans la détection des défauts sur le masque et la couche de plaquette. L'unité utilise un 180W le laser de pouls ultracourt déployé avec une tête de micro-optique ProScanIA™ faite breveter pour acquérir de 2èmes revêtements à haute résolution de surfaces de masque et de la gaufrette. Son optique de projection 5X crée une image haute précision descendante des surfaces de la plaquette et du masque, révélant des défauts avec un très haut degré de précision. KLA 2111 dispose également d'une machine d'acquisition d'images haute vitesse, qui capture à la fois des images masquées et démasquées et exécute une multitude d'algorithmes de traitement d'images. Ces algorithmes permettent de détecter et de classer les défauts caractérisés dans un seul cycle d'inspection, ce qui réduit considérablement le temps d'inspection et augmente le rendement. L'outil comprend un logiciel propriétaire pour aider les clients à vérifier et évaluer leurs résultats d'inspection des défauts. Le logiciel prend en charge une gamme de mesures quantitatives pour permettre aux utilisateurs de caractériser leurs structures de périphériques. Pour faciliter l'utilisation, TENCOR 2111 dispose également d'une interface graphique avancée (interface graphique). Cette interface graphique permet aux utilisateurs de générer rapidement des rapports personnalisés avec des résumés de haut niveau, sans sacrifier l'analyse approfondie des données. La combinaison de l'optique haute résolution, des capacités avancées de traitement d'image et de l'interface graphique intuitive crée un masque imbattable et un outil d'inspection des plaquettes. Ce modèle fournit une analyse 2D incroyablement détaillée, idéale pour identifier et quantifier les défauts masqués et non masqués. C'est l'outil parfait pour les fabricants de semi-conducteurs et les ingénieurs qui cherchent à maximiser le rendement et à identifier les problèmes critiques au début du cycle de vie de la conception du produit.