Occasion KLA / TENCOR 2111 #9410122 à vendre en France

ID: 9410122
Style Vintage: 1992
Defect review system 1992 vintage.
KLA/TENCOR 2111 est un équipement de haute performance, masque haute résolution et d'inspection des plaquettes qui peut fournir des résultats précis et reproductibles à grande vitesse. Le système est conçu pour détecter et analyser une variété de défauts liés au processus, y compris les erreurs de ligne et d'espace, les concentrations de particules, les erreurs de géométrie de conception et les défauts de motif de sous-microns. KLA 2111 est équipé d'une unité de détection laser à double longueur d'onde avancée qui permet à la fois une détection de défauts haute résolution et haute vitesse. Il dispose également d'un grand champ de vision, lui permettant d'inspecter jusqu'à 77mm de surface de substrat. La machine dispose d'un certain nombre de paramètres de traitement configurables, permettant aux utilisateurs de personnaliser le processus d'inspection du masque et de la plaquette en fonction de leurs besoins spécifiques. Au cœur de l'outil se trouve le logiciel d'imagerie et de reconnaissance de motifs. Ce logiciel fonctionne en conjonction avec le modèle de détection laser à double longueur d'onde de l'actif pour détecter et mesurer avec précision la taille, la forme et le contraste des différents défauts liés au processus. Le logiciel a également la possibilité d'être configuré avec un certain nombre d'autres paramètres, y compris auto-population d'objets fausses alarmes et analyse statistique des populations de défauts. L'équipement est également équipé d'une interface intuitive et conviviale. Il dispose d'une interface graphique qui permet aux utilisateurs de mesurer et de surveiller rapidement et facilement les défauts liés aux processus. Il est ainsi facile de surveiller, de signaler et d'analyser les défauts liés au processus, ainsi que de personnaliser le processus d'inspection en fonction des besoins exacts de l'utilisateur. TENCOR 2111 est un système d'inspection à haute performance, masque haute résolution et wafer conçu pour des applications industrielles et de recherche. Il fournit des résultats précis et reproductibles à grande vitesse, ce qui en fait un choix idéal pour des applications dans la production de semi-conducteurs, la microélectronique et les systèmes microélectromécaniques (MEMS). Son unité de détection avancée, son interface graphique intuitive et ses paramètres de traitement configurables en font un outil puissant et fiable pour ceux de l'industrie des semi-conducteurs.
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