Occasion KLA / TENCOR 2131 #168852 à vendre en France

KLA/TENCOR 2131 Masque et Wafer Inspection Equipment est un système d'inspection complet pour l'inspection des masques de wafer, la métrologie et l'examen des défauts. Conçu pour une utilisation facile et haute performance, l'unité fournit l'acquisition automatisée d'images, l'inspection d'images et l'examen des défauts pour assurer un rendement élevé et le contrôle des processus. KLA 2131 dispose d'une caméra CCD haute résolution et d'un module d'éclairage conçu pour capturer les images défectueuses avec une grande précision, même sur les technologies de masquage difficiles. Cela permet aux utilisateurs de détecter et de caractériser toute la gamme des défauts, y compris les trous d'épingle et les contaminants de surface, aussi petits que 0,02 micron. La machine dispose également d'un outil de contrôle automatisé qui permet l'alignement rapide des dispositifs, l'adaptation des motifs et l'identification des défauts. Cela permet aux utilisateurs de dépanner et d'analyser facilement les masques défectueux, assurant le contrôle des processus et un rendement élevé. TENCOR 2131 comprend également un outil de métrologie avancée pour des mesures de haute précision des plaquettes. Cet outil de métrologie comprend un atout d'alignement optique précis et rapide qui garantit une grande précision et reproductibilité. Le modèle comprend également une grande variété d'algorithmes avancés de mesure et de caractérisation pour mesurer avec précision les paramètres des images défectueuses, y compris l'épaisseur, la température de surface et d'autres caractéristiques. 2131 dispose également d'une interface utilisateur intuitive qui permet aux utilisateurs de naviguer rapidement entre différentes fonctions et de revoir des images. En outre, l'équipement d'inspection des masques et plaquettes peut être facilement intégré dans les systèmes existants, permettant un échange de données à grande vitesse et une communication machine-machine efficace. En résumé, KLA/TENCOR 2131 Mask and Wafer Inspection System fournit une gamme complète d'outils pour l'inspection rapide et précise du masquage, la métrologie et l'examen des défauts. Avec son unité de contrôle automatisé et sa caméra CCD haute résolution, la machine permet aux utilisateurs de détecter et de caractériser avec précision les défauts jusqu'à 0,02 micron, assurant ainsi un haut rendement et un contrôle des processus. En outre, son interface utilisateur intuitive et son intégration facile dans les systèmes existants rendent l'outil très efficace et productif.