Occasion KLA / TENCOR 2131 #293587951 à vendre en France

KLA/TENCOR 2131 masque & wafer inspection equipment est un système multifonctionnel conçu pour l'inspection des masques et wafers IC (circuit intégré). L'unité combine une station d'imagerie optique de pointe et des algorithmes avancés de détection de défauts pour fournir une inspection rapide, précise et haute résolution des masques et des plaquettes. La machine dispose d'une station d'imagerie optique de pointe qui est équipée de plusieurs caméras DCI-LX et de sources d'éclairage avancées. Les caméras sont utilisées pour capturer des images haute résolution des masques et des plaquettes. Les sources d'éclairage peuvent être utilisées pour recueillir la lumière diffusée des échantillons afin de détecter la présence de défauts opaques sur la surface de la plaquette. Les algorithmes avancés de détection des défauts de l'outil peuvent être utilisés pour détecter les lignes de silicium polycristallin manquantes, les vias érodés et les ouvertures sur les masques et les plaquettes IC. KLA 2131 dispose également de capacités avancées d'analyse de données. Le modèle peut traiter automatiquement les images prises des masques et plaquettes IC pour identifier les motifs, détecter les anomalies et extraire des informations statistiques. Ces informations peuvent être utilisées pour évaluer la qualité des masques et plaquettes CI et pour éliminer les défauts potentiels. L'équipement peut également être utilisé pour mesurer les dimensions critiques des circuits IC sur les masques et les plaquettes. Le système est également capable d'automatiser la classification des défauts de plaquettes. Cette fonctionnalité permet à l'unité de classer automatiquement les défauts comme isolés, groupés, linéaires ou étendus. Cette information peut être utilisée pour déterminer la gravité des défauts et pour hiérarchiser les mesures correctives. La machine TENCOR 2131 est conçue pour être utilisée dans un environnement de production et peut fonctionner à un débit élevé. Il peut être connecté à l'outil de contrôle de la production d'une usine, ce qui lui permet de contrôler la ligne de production en temps réel. L'actif dispose également d'un dépôt de défauts extensible, qui peut être utilisé pour comparer les résultats actuels avec les résultats historiques. Cette fonctionnalité permet une compréhension plus complète des défauts sur les masques et plaquettes IC. Le modèle 2131 d'inspection des masques et plaquettes est une solution avancée et puissante pour l'inspection des masques et plaquettes IC. Il combine une station d'imagerie optique haut de gamme, des algorithmes avancés de détection de défauts et une classification automatisée des défauts de plaquettes pour fournir des résultats rapides et précis. L'équipement dispose également d'un dépôt de défauts extensible et peut être connecté à un système de contrôle de production, lui permettant de fonctionner à un débit élevé.