Occasion KLA / TENCOR 2131 #293824933 à vendre en France

KLA/TENCOR 2131 est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes conçu pour les fabricants de semi-conducteurs pour garantir des produits de haute qualité. Il utilise la technologie avancée de microscopie lumineuse pour fournir 20nm de résolution à la fois sur la plaquette et le niveau du masque. Le système est composé de plusieurs sous-systèmes, dont un sous-système optique avancé, un sous-système de contrôle des mouvements, un sous-système de contrôle et de mesure et un sous-système de traitement des échantillons. Au cœur de l'unité se trouve le sous-système optique avancé qui se compose de plusieurs composants, dont une machine optique de précision, un outil d'acquisition d'images et un actif d'analyse d'images. Le modèle optique de précision utilise des objectifs microscopiques de haute qualité pour fournir des images à haute résolution de l'échantillon. L'équipement d'acquisition d'images est capable de passages simples ou multiples sur l'échantillon et peut fournir à la fois des balayages de boîtes et des balayages de lignes. Le système d'analyse d'image est utilisé pour détecter les défauts au niveau du masque et de la plaquette. Le sous-système de contrôle de mouvement est chargé d'assurer un contrôle précis de la position du sous-système optique sur l'échantillon. Il se compose de plusieurs moteurs et contrôleurs de haute précision qui permettent à l'unité de faire des réglages fins afin de fournir des résultats très précis. Le sous-système de contrôle et de mesure est utilisé pour contrôler l'ensemble de l'unité et capturer les mesures de l'échantillon inspecté. Il se compose de plusieurs unités, dont une unité centrale de traitement, une machine de stockage de données, un afficheur et un dispositif d'entrée. L'outil de stockage de données stocke les images capturées par le sous-système optique pour examen et analyse ultérieurs. Le dispositif d'affichage et d'entrée fournit à l'opérateur une capacité de rétroaction et de contrôle sur l'actif. Le sous-système de manipulation de l'échantillon est chargé de placer l'échantillon dans le modèle, puis de l'enlever une fois l'inspection terminée. Il se compose de plusieurs composants, dont un sous-système « pick-and-place », un sous-système de transport d'échantillons et un sous-système de traitement d'échantillons. Le sous-système « pick-and-place » place l'échantillon sur le stade de l'équipement. Le sous-système de transport de l'échantillon est chargé de déplacer l'échantillon à la position souhaitée pour inspection. Enfin, le sous-système de traitement de l'échantillon est responsable de la préparation de l'échantillon à des fins d'inspection en fonction du processus requis. En conclusion, KLA 2131 est un système spécialisé d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il utilise des systèmes avancés d'optique, de contrôle de mouvement et de manipulation d'échantillons afin de fournir une résolution de 20nm au niveau du masque et de la plaquette. L'unité est fiable et efficace, permettant des résultats rapides et précis pour tout procédé de fabrication de semi-conducteurs.