Occasion KLA / TENCOR 2131 #9158749 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR 2131 Masque et Wafer Inspection a été conçu pour fournir une grande précision, une capacité d'examen élevée et des résultats répétables pour les inspections de masques et de wafer dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce système d'inspection automatisé est capable d'examiner jusqu'à 70 000 masques et plaquettes par heure, et utilise une optique laser collimatée FOV de 5 pouces et une unité d'imagerie CCD avec une résolution de 1 micron par pixel. La machine KLA 2131 Masque et Wafer Inspection est équipée d'un puissant algorithme de traitement d'image qui permet de détecter et d'identifier rapidement et avec précision des défauts aussi petits que 0,2 micron. Cet outil comprend également plusieurs fonctionnalités intégrées pour assurer la qualité, telles que l'alignement en temps réel et l'auto focus. De plus, l'actif est équipé d'un modèle d'inspection des défauts basés sur la vision à haute performance qui est capable d'examiner les masques et les plaquettes pour déceler les défauts, la contamination et les composants de l'équipement. TENCOR 2131 Masque et Wafer Inspection système est conçu pour permettre une intégration facile de plusieurs plates-formes, outils de contrôle de la qualité et différents types d'équipements. Cette unité est compatible avec une gamme d'outils intégrés de contrôle des défauts et de caractérisation des défauts, tels que les ordinateurs de contrôle des défauts, les outils de contrôle de la qualité et les systèmes de tests électriques. La machine 2131 supporte également plusieurs masques et plaquettes en même temps, ce qui permet une révision plus rapide pour les grands ensembles de plaquettes et de masques. De plus, l'outil dispose d'un atout de gestion des données qui permet une révision et une résolution rapides et précises des données de défaut, ce qui augmente l'efficacité du processus d'inspection. Le modèle offre également plusieurs fonctions de surveillance et de rapport, comme un moniteur de processus, qui fournit une vue intégrée de l'ensemble du processus d'inspection du masque et des plaquettes en temps réel. L'équipement comprend également un logiciel de contrôle de haut niveau (HLC) qui peut être personnalisé pour répondre à différentes exigences de fabrication et fournir la plus haute précision d'examen des défauts. Dans l'ensemble, le système KLA/TENCOR 2131 fournit une inspection rapide et précise des masques et des plaquettes avec des résultats reproductibles, et est capable de s'intégrer à une gamme d'outils d'examen et de caractérisation des défauts. Cette unité dispose également d'un puissant algorithme de traitement d'image, d'une machine de gestion de données et d'une gamme de fonctions de surveillance et de reporting qui garantissent une grande précision des défauts.