Occasion KLA / TENCOR 2131 #9236722 à vendre en France

KLA/TENCOR 2131 L'équipement d'inspection Masque et Wafer est conçu pour les plus hauts niveaux de précision et de sensibilité dans la production de composants et dispositifs semi-conducteurs à partir d'une large gamme de matériaux et de géométries. Utilisant l'optique avancée et le traitement d'image numérique, cette machine de haute technologie permet la détection fiable des plus petits défauts et des anomalies de processus au cours de la phase de fabrication. Le système est capable d'effectuer diverses inspections et mesures des plaquettes et des masques à la demande de l'utilisateur, y compris l'inspection des photomasques en couches minces et la mesure de l'épaisseur des films, de la transparence, de la linéarité et de l'uniformité des épaisseurs. L'optique de KLA 2131 est conçue pour permettre l'inspection d'une variété de caractéristiques et de paramètres de masque avec une sensibilité exceptionnelle. Ces caractéristiques et paramètres comprennent la microscopie de caractéristiques sub-microscopiques telles que des lignes de photomasques, des réseaux, des carrés et des cercles, des tranchées, des espaces et des séparations, des largeurs de lignes, des motifs, des conceptions et des profils. L'optique utilise une incohérence optique plein champ et une dynamique z-lifeline pour obtenir une meilleure sensibilité dans le balayage de surface. En utilisant la dynamique z-lifeline, la machine peut détecter même les plus petits défauts avec un niveau élevé de précision et de sensibilité. En utilisant un logiciel spécialisé de reconnaissance de motifs, la machine est capable d'identifier différentes formes et structures sur les surfaces supérieure et inférieure de la plaquette ou du masque. Ce logiciel permet également de comparer les formes et les motifs pour l'assurance de la qualité, ce qui permet une analyse approfondie des caractéristiques de surface. Le logiciel peut distinguer les processus qui sont terminés avec succès et ceux qui ont des problèmes ou des anomalies. TENCOR 2131 offre d'autres capacités d'analyse et d'annotation aux ingénieurs de contrôle de la qualité et fournit des données en un format point-and-click pour aider à identifier les problèmes rapidement. Avec une unité intégrée de génération de rapports, cette machine permet un reporting précis et précis des résultats. En outre, le logiciel peut comparer les résultats à des sources lumineuses, des masques et des paramètres spécifiques définis par le client. 2131 Masque et Wafer Inspection Machine permet une précision et une sensibilité supérieures dans la production de composants et d'appareils semi-conducteurs. Son optique avancée, son logiciel de reconnaissance de motifs et ses capacités de génération de rapports en font un choix idéal pour traiter même les composants les plus précis. Cet outil sophistiqué de contrôle et de mesure permet une détection fiable des irrégularités et une comparaison précise des formes et des motifs pour l'assurance de la qualité.