Occasion KLA / TENCOR 2131 #9404525 à vendre en France

KLA/TENCOR 2131 Masque et Wafer Inspection Equipment offre une inspection haute performance et à la fine pointe de la technologie pour scanner des électrons et des microscopes optiques utilisés dans une large gamme d'applications de fabrication de semi-conducteurs. Le système est conçu pour détecter et classer avec précision les défauts sur les photomasques et les plaquettes, et peut classer avec précision les défauts multiples sur une seule plaquette. L'unité est conçue pour les environnements de production et est évolutive pour répondre aux besoins des tâches d'inspection des plaquettes à volume élevé. La machine KLA 2131 dispose d'un algorithme avancé d'inspection automatisée des défauts qui permet de détecter de petits défauts, tels que des paires de ponts brisés, des trous d'épingle et des vides, tout en classant les classes de défauts alternatives, tels que les défauts ponctuels, les particules et les caractéristiques de frange. Le flux de travail automatisé de détection et de classification de cet outil peut détecter un large éventail de défauts sur la plaquette sans introduire de complexité supplémentaire ou des opérations manuelles à forte intensité de main-d'œuvre, permettant un haut débit et des performances fiables. L'actif peut générer des données détaillées sous la forme d'images topographiques 3D et de mesures spectrales quantitatives, fournissant aux utilisateurs des informations exactes et exploitables sur le processus de fabrication. Le modèle propose également un logiciel de gestion des algorithmes de détection des clients, de regroupement de plaquettes pour l'analyse et de mise en place d'analyses complexes des modes de défaillance. Le logiciel permet aux utilisateurs de personnaliser leur équipement d'inspection pour répondre à leurs besoins spécifiques d'application et d'optimiser leurs processus. La technologie propriétaire KLA de manutention des plaquettes permet une manutention sans soudure et sans air des plaquettes et peut être intégrée dans le flux de gestion de processus existant. L'unité de vision avancée du système, combinée à un contrôle automatisé des mouvements, localise avec précision les défauts sur la plaquette et peut rapidement se déplacer entre différentes hauteurs de substrat pour réduire les erreurs potentielles de manipulation du substrat. TENCOR 2131 dispose également de l'éclairage de bord et de la technologie de polarisation numérique pour annuler les zones non défectueuses d'une plaquette, permettant à la machine automatisée de se concentrer plus rapidement sur les domaines de préoccupation. Cet outil est hautement configurable et peut être personnalisé pour répondre aux besoins d'une variété d'applications et de processus d'inspection. En conclusion, 2131 est un atout avancé et fiable pour détecter et classer les défauts potentiels sur les photomasques et les plaquettes. Ce modèle offre aux utilisateurs un débit élevé, des données détaillées et des fonctionnalités logicielles et matérielles intégrées qui permettent des processus optimisés et précis de détection et de classification des défauts.