Occasion KLA / TENCOR 2132 #293798142 à vendre en France

KLA/TENCOR 2132 Mask & Wafer Inspection Equipment est une solution d'inspection entièrement automatisée utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs. Il utilise un système d'imagerie numérique haute résolution pour détecter les défauts, définis comme des variations de topographie ou de réflectivité, dans les photomasques et les plaquettes. Un étage porte-air transporte l'échantillon à travers les systèmes optiques avancés de champ lumineux et de champ sombre, qui offrent un contraste clair de la topologie de surface et un contraste de bord pour faciliter la classification avancée des défauts. KLA 2132 peut accueillir des photomasques jusqu'à 12 pouces, ainsi que des plaquettes semi-conductrices de 200 millimètres à 450 millimètres. Différentes configurations d'étages sont disponibles et l'unité d'inspection peut être configurée pour une production à faible volume ou une fabrication à haut volume. Combiné à des fonctionnalités comptables sophistiquées, allant des angles d'analyse au nombre d'expositions et de couches, TENCOR 2132 fournit une analyse détaillée des données, une analyse des tendances des défauts et d'autres capacités de déclaration. L'interface utilisateur facile à utiliser à l'écran qui permet une variété de choix de mode analytique. La suite d'inspection comprend également un logiciel d'alignement de plaquettes et d'analyse d'images, et la suite est entièrement compatible avec les dernières exigences d'inspection compatibles de l'industrie et les interfaces informatiques. 2132 Masque et Wafer Inspection Machine est l'outil idéal pour les substrats de tailles et d'épaisseur variables, utilisant des capacités d'inspection visuelle avancée et d'analyse de diapositives dans l'environnement traçable et fiable d'une installation de fabrication de semi-conducteurs. Ses systèmes de champ lumineux et de champ sombre permettent de distinguer les caractéristiques topographiques des défauts de contraste optique. Sa suite logicielle intégrée assure une analyse efficace des données, le suivi des défauts et l'établissement de rapports. Et son palier à air permet une plus grande précision et un meilleur fonctionnement de l'échantillon. Ensemble, ces caractéristiques font de KLA/TENCOR 2132 Mask & Wafer Inspection Asset un outil de pointe pour une fabrication rapide et efficace des semi-conducteurs.