Occasion KLA / TENCOR 2132 #293815450 à vendre en France

KLA/TENCOR 2132 est un équipement fiable d'inspection des masques et des plaquettes utilisé pour détecter les défauts et améliorer le rendement dans la production de semi-conducteurs. Il utilise une combinaison d'optique avancée, de traitement d'image et de technologie de mesure laser avancée pour inspecter l'ensemble des surfaces du masque et de la plaquette à l'échelle du nanomètre. KLA 2132 est basé sur l'interféromètre laser non linéaire KLA SmartScribe. Ce système peut être utilisé pour recueillir et signaler avec précision les mesures à l'échelle nanométrique des caractéristiques défectueuses et non défectueuses sur la plaquette ou le masque. Toute la surface peut être balayée en une seule passe, créant une image claire de toute la surface. TENCOR 2132 utilise une technique brevetée combinant l'éclairage laser au niveau du nanomètre et le traitement dynamique de l'image pour fournir un rapport signal sur bruit amélioré qui permet de mesurer avec précision les défauts et autres caractéristiques. En plus de son optique avancée, la 2132 dispose également d'un motif de contraste segmenté pour la détection des défauts. Cette fonctionnalité utilise la détection de pixel pour isoler les zones avec le plus grand contraste, permettant une identification plus précise des défauts. Cela contraste avec des systèmes de reconnaissance mono-image plus standard, qui permettent une détection moins précise des défauts. L'unité est également équipée d'algorithmes avancés à grande vitesse pour la couture et l'autofocus. Cela permet un autofocus plus rapide, accélère l'ensemble du processus d'inspection et élimine la nécessité de recentrer l'optique lors de la numérisation de masques plus grands. KLA/TENCOR 2132 offre une variété de fonctionnalités qui permettent de le personnaliser pour s'adapter à l'environnement de production. L'optique réglable par l'utilisateur peut être optimisée pour différentes formes de masque et de substrat, tandis que le logiciel de la machine est compatible avec une gamme de systèmes de surveillance tiers de production. Dans l'ensemble, KLA 2132 est un outil d'inspection de masque et de plaquettes facile à utiliser et fiable qui maximise le rendement et réduit les coûts de production. Sa combinaison optique avancée, traitement d'image et mesure laser dynamique minimise le besoin de recentrer et fournit la plus grande précision pour les mesures nanométriques. Son profil de contraste segmenté pour la détection des défauts et les algorithmes d'autofocus à grande vitesse améliore encore son utilité, ce qui en fait un atout précieux pour les besoins de production de semi-conducteurs.