Occasion KLA / TENCOR 2132 #9389837 à vendre en France

KLA / TENCOR 2132
ID: 9389837
Wafer inspection system.
KLA/TENCOR 2132 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour le contrôle des processus et la gestion des rendements. C'est un système d'imagerie entièrement automatisé et avancé qui peut détecter et mesurer les défauts dans une gamme de masques, de plaquettes et de photomasques. L'unité repose sur une conception optique à haut débit, un balayage précis et des capacités automatiques d'autofocus pour obtenir des images claires et uniformes à un débit moyen de 1-2 échantillons par seconde. Le matériel comprend un éclairage LED multi-spectral et une caméra avec un capteur CMOS obturateur global. La machine optique associe l'imagerie haute résolution et la détection à grande surface, permettant un échantillonnage rapide et la détection des défauts potentiels. Le contrôle du mouvement et des capteurs précis garantissent que le mouvement de l'échantillon est optimisé pendant tout le cycle d'inspection, ce qui permet une capture d'image cohérente et précise. L'outil dispose également d'une analyse d'image précise avec des algorithmes basés sur les fonctionnalités De Spectre. Des algorithmes spécialement conçus permettent une détection précise des défauts avec un minimum de fausses alarmes, permettant une vitesse et une précision. Les algorithmes peuvent mesurer les dimensions des caractéristiques et les caractéristiques géométriques, et comprennent permettre le dimensionnement et la classification des défauts en temps réel. KLA 2132 est conçu avec une interface conviviale, permettant une configuration et un basculement faciles, ainsi qu'une collecte, une analyse et un reporting faciles. Cet atout offre également des capacités de reporting intuitives, permettant à l'utilisateur de générer une variété de formats pour différents rapports. L'analyse d'image après traitement et le calibrage des défauts sont entièrement automatisés pour les réglages à la volée. TENCOR 2132 est plus qu'un modèle d'inspection de masque et de plaquette. Il peut également être utilisé pour toute une gamme d'applications de production et d'ingénierie, y compris le contrôle de la qualité des produits LCD et OEL, les procédés de fabrication de semi-conducteurs, l'assurance de la qualité des expositions à la lithographie, l'examen des modèles de photomasques et de réticules et la détection des défauts dans les CCD. Grâce à l'interface facultative « intégration des systèmes », l'équipement peut s'intégrer aux systèmes de production ou d'ingénierie existants des utilisateurs - permettant un meilleur contrôle des flux de processus, une meilleure manipulation des composants et des rendements optimisés.
Il n'y a pas encore de critiques