Occasion KLA / TENCOR 2133 #9150400 à vendre en France

KLA/TENCOR 2133 Masque et Wafer Inspection Equipment est un système complet, très précis et automatisé d'inspection conçu pour la détection et l'identification des défauts des masques photo et des plaquettes semi-conductrices. L'unité fonctionne à l'aide d'un microscope automatisé avancé pour analyser les particules microscopiques, les contaminants, les irrégularités ou les défauts. Il compare ensuite les images produites par le microscope aux normes établies et détermine si le motif est acceptable ou doit être fixé. KLA 2133 Masque et Wafer Inspection Machine dispose d'un chemin optique avancé qui assure le plus haut niveau de détection de défauts et de précision. L'outil comprend un mécanisme d'auto-focus avancé pour l'optimisation automatique et manuelle de l'image, des techniques d'éclairage avancées pour améliorer le contraste et la clarté des motifs, et une suite d'algorithmes uniques de détection des défauts qui fournissent une identification exceptionnellement précise des défauts. L'actif comprend également une suite de fonctions polyvalentes d'inspection, de vérification et d'analyse qui permettent une surveillance rapide et facile des défauts et une analyse des performances. TENCOR 2133 Masque et Wafer Inspection Model est optimisé pour une utilisation avec des structures de défauts complexes tels que ceux trouvés dans les produits de logique et de mémoire. L'équipement peut détecter avec précision des défauts critiques de 0,5 à 5 microns de taille, ainsi que des structures de sous-microns. De plus, le système fournit un ensemble intégré d'analyse des défauts pour permettre une investigation détaillée et le diagnostic des défauts. L'unité offre également une traçabilité complète des résultats des défauts, permettant une meilleure visibilité des défauts et un contrôle des processus. 2133 Mask & Wafer Inspection Machine offre également une variété de fonctions telles que la génération automatisée d'images, l'enregistrement des défauts, des logiciels conviviaux, des rapports intuitifs et des fonctions programmables par l'utilisateur. De plus, l'outil offre un atout d'étalonnage intégré et des capacités 3D améliorées pour une meilleure surveillance des défauts. Dans l'ensemble, le modèle KLA/TENCOR 2133 Masque et Wafer Inspection Model est un équipement d'inspection automatisé robuste et très précis conçu pour détecter et identifier les défauts des masques photo et des plaquettes semi-conductrices. Avec des fonctionnalités telles que l'optique avancée, des algorithmes de détection de défauts, et des capacités d'analyse sophistiquées, le système fournit une solution idéale pour garantir la qualité et la fiabilité des produits électroniques.