Occasion KLA / TENCOR 2133 #9395745 à vendre en France

KLA/TENCOR 2133 masque and wafer inspection solution est un outil avancé qui est capable de produire des images haute résolution et des données de mesure pour inspecter des modèles complexes pour les plaquettes semi-conductrices. Cet équipement offre une sensibilité accrue aux défauts extrêmement petits, et fournit une imagerie multi-longueurs d'onde pour des images claires et claires. De plus, les algorithmes de vision de pointe fournissent des temps d'inspection rapides et une excellente précision de repérage. Le masque KLA 2133 et le système d'inspection des plaquettes offrent un certain nombre de caractéristiques. Tout d'abord, l'unité est conçue pour traiter différentes épaisseurs de substrat, y compris celles inférieures à 5 μ m, ainsi qu'une gamme de pas de ligne. Il fournit également l'uniformité suprême de l'éclairement de l'échantillon à 100 mg/cm2 de résolution à l'échelle de la plaquette, et 10 μ m à une seule filière. En utilisant un objectif ultra-rapide avec des corrections d'aberration symétriques, la machine est capable d'effectuer une inspection rapide, précise et répétable. En outre, avec une gamme d'options optiques comprenant plusieurs longueurs d'onde et un éclairage polarisé, ainsi qu'un outil de scatterométrie intégré, les clients ont plus de liberté de choix lors de la conception de leur produit. TENCOR 2133 masque et wafer inspection actif est livré avec une interface logicielle conviviale qui accélère le temps de configuration et facilite la construction de motifs complexes. En utilisant le Défaut la technologie de LiberationTM, les utilisateurs peuvent faire la différence entre jusqu'à 160 dessins automatiquement, en améliorant ainsi la production. Le modèle est plus loin amélioré avec les Données le format d'évaluation d'inspection d'ExplorerTM, qui permet aux utilisateurs de vite explorer leurs résultats d'inspection. En outre, le logiciel comprend des fonctions de rapport, permettant aux ingénieurs d'obtenir des informations sur la source, le type et l'emplacement des défauts sur les modèles, fournissant un meilleur contrôle et l'analyse RIB. Les équipements d'inspection des masques et des plaquettes 2133 conviennent parfaitement aux fabricants IC, MEMS et LED. Le système est entièrement compatible avec la plateforme d'évaluation modulaire (MEP), permettant aux clients d'intégrer facilement plusieurs systèmes de mesure pour fournir une solution de caractérisation complète. Une technique innovante de marquage et de fusion augmente le débit, tandis qu'une nouvelle unité d'automatisation de couche de couleur et de détection de marqueur augmente la précision globale. En combinant un appariement automatisé rapide et une technologie d'appariement précise, les clients peuvent réduire le temps d'inspection et les taux de fausses défaillances. En conclusion, KLA/TENCOR 2133 masque and wafer inspection solution est une machine avancée conçue pour produire des résultats d'inspection très fiables et précis. L'outil fournit des interfaces conviviales qui permettent aux ingénieurs de gérer efficacement leurs opérations. Avec une gamme de fonctionnalités et d'options optiques, l'actif est idéal pour les fabricants IC, MEMS et LED qui souhaitent améliorer leurs capacités d'inspection de masque et de plaquettes.