Occasion KLA / TENCOR 2135 #9249042 à vendre en France

KLA/TENCOR 2135 Masque et Wafer Inspection Equipment est une solution de métrologie avancée dédiée aux besoins de métrologie de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Sa technologie exclusive lui permet de mesurer rapidement et avec précision les motifs critiques contenus dans les masques lithographiques ou les plaquettes utilisés dans la production de dispositifs semi-conducteurs. KLA 2135 est capable de détecter des défauts extrêmement petits et des variations de caractéristiques sur une échelle d'appareil avec un degré élevé de précision et de répétabilité. Le système TENCOR 2135 est construit sur une plate-forme modulaire qui peut être configurée pour diverses applications selon les besoins. Cela permet aux utilisateurs d'adapter facilement l'outil à différentes applications lithographiques au besoin. Ces applications peuvent aller de l'inspection des défauts die-to-die à la qualification des profils en passant par l'analyse des gigues d'horloge. Pour faciliter la mesure et l'analyse de haute précision, l'outil intègre du matériel et des logiciels propriétaires. Une combinaison unique d'optique haute définition, de balayage laser confocal, d'optique interférentielle et de détecteurs avancés mesure et analyse les caractéristiques avec une résolution de niveau micron. De plus, les algorithmes de détection des défauts de l'unité d'inspection sont précisément calibrés pour détecter même les plus petites variations dans les dimensions et la forme d'une caractéristique. Tout aussi importante est la capacité de la machine 2135 à traiter et analyser rapidement de grandes quantités de données d'une manière efficace. L'outil peut traiter des centaines de gigaoctets de données en une seule heure grâce à ses capacités d'archivage et de récupération d'images embarquées. De plus, l'actif KLA/TENCOR 2135 peut automatiquement reconnaître, classer et mesurer les caractéristiques des appareils sans pratiquement aucune intervention humaine requise. Cela garantit que l'outil peut constamment fournir des résultats de haute qualité sans avoir besoin de processus d'inspection manuelle fastidieux. Dans l'ensemble, KLA 2135 Masque et Wafer Inspection Model est une solution robuste et fiable pour les besoins de métrologie de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Sa combinaison de matériel avancé, de logiciels et de processus d'analyse lui permet d'identifier de manière fiable les défauts sur les masques lithographiques et les plaquettes, permettant un meilleur contrôle de la qualité et des rendements de production. Avec sa capacité à réduire le travail humain pendant les processus d'inspection, l'outil est un choix idéal pour toute application lithographique moderne.