Occasion KLA / TENCOR 2135 #9383823 à vendre en France

KLA/TENCOR 2135 masque and wafer inspection equipment est un système automatisé polyvalent conçu pour inspecter les masques à motifs et les plaquettes à semi-conducteurs. L'unité contient à la fois un champ lumineux et des méthodes d'inspection de la lumière oblique de champ sombre, y compris l'inspection différentielle de champ lumineux-sombre, différentiel de champ noir-sombre, et dimension critique de champ sombre. La machine est construite avec deux composants interdépendants : l'Observatoire de mode différentiel et la Station d'examen des défauts Wafer/Mask. L'Observatoire de mode différentiel (ODM) combine un outil d'imagerie champ lumineux/champ sombre et un étage wafer/masque pour supporter plusieurs angles d'éclairage laser linéaires et obliques. Il est équipé d'une caméra haute résolution et d'un outil d'imagerie capable de détecter et de quantifier les défauts finis. Le Wafer/Mask Defect Review Station dispose d'un étage xy motorisé, capable de scanner à la fois la plaquette et le masque pour les défauts. La station contient plusieurs sources lumineuses qui éclairent la plaquette/le masque sous différents angles d'incidence, y compris le champ lumineux et l'éclairage du champ sombre. Cela permet une inspection des défauts de grande résolution et de grand champ de vision sur les petits et grands appareils, les plus petites tailles de caractéristiques détectables étant aussi petites que 5nm. KLA 2135 est conçu pour étudier divers types de défauts et de défauts de wafer/masque, y compris les courts-circuits électriques, les ouvertures de lithographie, les défauts de photorésist, la fissuration de film et les désalignements de motifs. Il est également capable d'inspecter des plaquettes de 248mm à 500mm et des masques de 4 pouces à 8 pouces. TENCOR 2135 est livré avec des outils d'analyse et de rapport basés sur le Web qui permettent aux opérateurs d'obtenir des vues en temps réel sur les processus d'inspection du modèle. Cela élimine le besoin de journalisation manuelle et permet une analyse rapide et facile des données générées. Dans l'ensemble, le matériel d'inspection des masques et des plaquettes 2135 est un système précieux et polyvalent pour la détection automatisée des défauts et l'analyse des défauts. C'est un outil essentiel pour une production moderne et peut contribuer à améliorer le rendement et la qualité des produits.