Occasion KLA / TENCOR 2138 XP #293792053 à vendre en France

KLA / TENCOR 2138 XP
ID: 293792053
Taille de la plaquette: 6"-8"
Style Vintage: 1998
Wafer inspection system, 6"-8" Dual open cassette CIM: SECS / GEM Robot Line conditioner Fan module Inspection station No ADC Station No ISMF Controller Chuck type: Low contact chuck Line conditioner: 18 KVA, 50 A, 3 Phase Power requirement (IS Module): 208 VAC, 3 Phase WYE, 50/60 Hz Power requirement (UI Module): 208 VAC, 3 Phase WYE, 50/60 Hz Operating system: Windows NT 1998 vintage.
KLA/TENCOR 2138 XP est un équipement avancé d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour l'imagerie haute performance et la détection des défauts dans les processus de fabrication des semi-conducteurs. Ce système combine une technologie de pointe avec une interface conviviale afin de fournir des résultats d'inspection précis et fiables pour les applications critiques des plaquettes photomasques et semi-conductrices. KLA 2138 XP utilise une unité optique sophistiquée qui permet l'imagerie haute résolution des caractéristiques microscopiques sur les masques et les plaquettes. La machine est équipée de multiples sources lumineuses, telles que le champ lumineux, le champ noir et les techniques d'éclairage obliques, afin d'améliorer le contraste d'image et de maximiser la sensibilité de détection des défauts. En outre, l'outil dispose d'optiques avancées, y compris des objectifs à ouverture numérique élevée et des filtres d'imagerie spécialisés, pour obtenir une qualité et une résolution d'image supérieures. L'un des points forts de TENCOR 2138XP est sa polyvalence dans la manipulation de divers types de substrats et de matériaux. L'actif est compatible avec une large gamme de tailles de masques et de plaquettes, y compris des plaquettes de 200mm et 300mm et des tailles de masques standard utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Il peut également accueillir différents types de substrats, tels que le silicium, le verre et les matériaux semi-conducteurs composés, ce qui le rend adapté à un ensemble varié d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. En termes de capacité de détection des défauts, 2138 XP offre une suite complète de modes d'inspection et d'algorithmes pour identifier et classer les défauts avec une grande précision et précision. Le modèle utilise des techniques avancées de traitement d'images et d'apprentissage automatique pour analyser les images collectées et différencier les vrais défauts et les variations de processus. Il peut détecter une variété de défauts, y compris des particules, des défauts de motif et des erreurs de recouvrement, assurant un rendement et une qualité élevés dans la fabrication de semi-conducteurs. KLA 2138XP dispose également d'une interface logicielle intuitive qui permet aux utilisateurs de contrôler largement le processus d'inspection. L'équipement offre des recettes d'inspection personnalisables et des outils automatisés de configuration de recettes pour rationaliser le flux de travail d'inspection et améliorer la productivité. Les utilisateurs peuvent facilement ajuster les paramètres d'imagerie, les critères de classification des défauts et les stratégies d'inspection pour répondre aux exigences spécifiques des applications et optimiser les résultats des inspections. En outre, KLA/TENCOR 2138XP est équipé de capacités avancées de gestion des données pour stocker et analyser efficacement les résultats des inspections. Le système peut générer des cartes détaillées des défauts, des histogrammes et des analyses de tendances pour suivre les tendances des défauts au fil du temps et faciliter l'amélioration des processus. Il permet également une intégration homogène des données avec d'autres outils et systèmes de fabrication, permettant un contrôle et une surveillance complets des processus dans les environnements de production de semi-conducteurs. Globalement, 2138XP représente une solution de pointe pour l'inspection des masques et des plaquettes dans la fabrication de semi-conducteurs. Grâce à sa technologie d'imagerie avancée, à sa compatibilité polyvalente des substrats, à ses capacités robustes de détection des défauts et à son interface conviviale, cette unité offre des performances et une productivité élevées pour les applications critiques d'inspection dans l'industrie des semi-conducteurs.
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