Occasion KLA / TENCOR 2138 #191420 à vendre en France

KLA/TENCOR 2138 Masque et Wafer Inspection Equipment est un outil automatisé de haute vitesse et de précision utilisé pour inspecter les structures de semi-conducteurs haut de gamme et les dispositifs électroniques pour détecter les défauts et les dommages qui pourraient causer une défaillance du produit. Le système d'inspection utilise plusieurs types de technologies d'imagerie avancées puissantes telles que l'ultraviolet (UV), l'ultraviolet-visible (UV-Vis), le proche infrarouge (NIR) et les techniques d'imagerie infrarouge (IR) pour détecter une variété de défauts et de dommages, y compris des particules et des contaminants, des défauts de polissage, des fractures, des vides vides vides rayures, des rayures, des gravures, des gravures, des contaminations, des contaminations et des malformations et des allies. L'unité est conçue pour inspecter les substrats de masque et de plaquette avec une variété d'options à la disposition des clients afin d'aborder des applications et des techniques spécifiques. Il dispose d'une source lumineuse personnalisable à l'application de l'utilisateur, d'une roue de filtre embarquée pour contrôler la longueur d'onde d'imagerie, et d'un module de caméra et d'un ensemble optique pour l'acquisition et l'analyse d'images. La KLA 2138 est conçue pour offrir des vitesses d'inspection qui répondent ou dépassent les exigences de l'industrie et est bien adaptée aux besoins d'inspection de volume moyen. Ses technologies d'imagerie améliorées permettent de détecter des défauts tels que des éléments manquants, des surfaces inégales et des variations de zones inexpliquées qui ne peuvent être identifiées par la seule inspection à l'oeil nu. La machine offre également aux utilisateurs une gamme de niveaux de précision micrométriques, un faible bruit de fond et des vitesses d'inspection rapides, ce qui la rend idéale pour une utilisation dans des domaines tels que la microélectronique, le photovoltaïque et l'optique. Sa conception ergonomique le rend simple à utiliser et son logiciel intégré permet aux utilisateurs de contrôler le fonctionnement de l'outil, de stocker et d'analyser des données, et de créer des modèles d'inspection personnalisés. TENCOR 2138 dispose également d'une interface d'imagerie optionnelle pour le découpage d'images qui permet l'inspection détaillée de photomasques ou de plaquettes. Il peut être utilisé pour la détection et la mesure de défauts, l'obtention d'images dynamiques ou statiques, l'analyse de substrats pour la planéité, et pour fournir des données quantitatives pour la caractérisation, le contrôle des processus, et la prise de problèmes des processus de production. Les capacités d'interfaçage de l'actif comprennent la commande de caméra numérique, des sorties de signaux numériques ainsi que des ports USB pour le couplage avec des périphériques externes. Il peut être installé en configuration verticale ou inversée, ce qui en fait un outil très polyvalent pour diverses applications d'inspection. 2138 Masque et Wafer Inspection Model est un outil puissant, fiable et flexible, adapté aux besoins et applications spécifiques des clients de l'industrie de la fabrication et de l'inspection des semi-conducteurs. Avec ses technologies d'imagerie avancées, sa conception ergonomique et ses fonctionnalités personnalisables, c'est une solution idéale pour l'inspection et l'analyse des masques et des plaquettes.