Occasion KLA / TENCOR 2139 #9227709 à vendre en France

KLA/TENCOR 2139 est un équipement de nouvelle génération d'inspection de masques et de plaquettes, conçu pour répondre aux exigences de haute vitesse, de haute précision et de grande capacité des géométries de processus semi-conducteurs les plus avancées d'aujourd'hui. KLA 2139 dispose de stations d'imagerie en quatre dimensions pour produire des images 3D acérées avec une précision et une résolution extrêmes, ainsi que d'un logiciel avancé de reconnaissance de motifs pour la détection ponctuelle des défauts potentiels. Il est capable d'effectuer des inspections simultanées d'un maximum de quatre zones d'inspection distinctes dans une seule image et est équipé d'une interface utilisateur améliorée conçue pour rendre l'analyse et l'interprétation des données efficaces et précises. Le système utilise la capture de données sous-pixel point pour capturer les détails microscopiques des défauts individuels et des débris, à l'aide d'un pipeline optimisé de traitement d'image basé sur Python. Les composants d'imagerie de TENCOR 2139 comprennent à la fois un réseau de détecteurs de champ lumineux et de champ sombre, ainsi qu'une unité optique optimisée conçue pour l'acquisition et l'imagerie rapides de données. Il comprend également un EMCCD refroidi thermo-électrique pour s'assurer que le bruit thermique est minimisé et la luminosité est maximisée pour une imagerie de haute qualité. En plus de fournir une imagerie 3D de haute qualité, la machine est également conçue pour être rapide, fiable et facile à utiliser. Il dispose d'un étage de haute précision, qui permet à l'outil d'effectuer de multiples inspections rapidement et avec précision. Il est également équipé d'une ouverture multidirectionnelle pour permettre l'inspection des particules ultra-petites, et peut être intégré à un poste de contrôle automatisé des défauts pour améliorer encore ses capacités de traitement. En plus de ses capacités d'imagerie, 2139 est également conçu pour gérer un large éventail de tâches d'inspection. Son algorithme exclusif de mise en correspondance omnidirectionnelle lui permet de comparer les motifs des caractéristiques et de les centrer dans le masque d'inspection rapidement et précisément. L'actif supporte également la classification des défauts grâce à des algorithmes intelligents, et est capable de détecter les défauts en temps réel avec différents niveaux de confiance. Enfin, il est capable d'effectuer des mesures d'épaisseur de couche et d'analyse des caractéristiques et des informations de défaut pour générer un ensemble polyvalent de rapports et d'analyses. Grâce à sa combinaison d'imagerie haute résolution, d'algorithmes avancés de reconnaissance des motifs et de vitesses de traitement rapides, KLA/TENCOR 2139 est devenu la norme pour l'inspection des masques et des plaquettes dans l'industrie des semi-conducteurs. Avec ses performances de pointe et sa facilité d'utilisation, il est un choix idéal pour une production de semi-conducteurs à grande échelle et rentable.