Occasion KLA / TENCOR 2139 #9230684 à vendre en France

ID: 9230684
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Wafer inspection system, 8" Open cassette User interface Monitor with PC Stages: X Stage bracket Theta stage Image computer: IMC0 IMC1 IMC2 IMC3 Power supplies: +12 VDC E-Drawer 24 VDC E-Drawer -24 VDC E-Drawer +48 VDC E-Drawer +65 VDC E-Drawer 2000 vintage.
L'équipement KLA/TENCOR 2139 est une solution d'inspection des masques et des plaquettes qui détecte les défauts sur les processus des plaquettes en amont et en aval de la fabrication des photomasques. Le système offre une combinaison de ports d'imagerie, d'aligneurs de masques, de systèmes optiques et d'éclairage avancés, et d'algorithmes sophistiqués pour détecter les défauts subtils mais critiques sur la photomasque. Les ports d'imagerie sur KLA 2139 fournissent une imagerie haute résolution du photomasque en détectant les différences de réflexions lumineuses et en les affichant à l'utilisateur. Il dispose d'une inspection complète, qui assure une couverture complète de toute la zone d'inspection et peut détecter des caractéristiques aussi petites que 0,25 micromètre. Ses systèmes optiques et d'éclairage comprennent la déviation avancée du faisceau, la focalisation directe/variable, l'éclairage oblique et la rétrodiffusion/transmission pour capturer avec précision les défauts subtils. Les aligneurs de masque assurent en revanche un alignement précis entre le masque et la plaquette. TENCOR 2139 dispose d'une plate-forme logicielle sophistiquée qui offre des fonctions spécialisées pour l'inspection des masques et des plaquettes. Ses algorithmes avancés permettent un examen automatisé des défauts sur le photomasque et un tri efficace des défauts purs à partir de fausses indications. L'unité comprend une machine de focalisation automatique intelligente qui recueille automatiquement les positions de focalisation de chaque champ inspecté. Il dispose également de commandes contextuelles qui permettent un fonctionnement intuitif et une productivité améliorée. Dans l'ensemble, 2139 outil est une solution idéale pour la détection des défauts sur les processus photomasques et fournit une solution rentable et efficace pour l'inspection des masques et des plaquettes. Il combine des systèmes d'imagerie haute résolution, des systèmes optiques et d'éclairage avancés, un alignement fiable des masques et des algorithmes sophistiqués pour assurer une inspection précise, précise et fiable des processus photomasques.
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