Occasion KLA / TENCOR 2350 #9136721 à vendre en France

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KLA / TENCOR 2350
Vendu
ID: 9136721
High resolution imaging inspection system, 8"-12" Dual FIMS EFEM, 8" GEM SECS and HSMS Signal light tower XENON Lamp: 150 W Wave length illumination: 370 ~ 720 nm Wave length band: Visible, UV, i-line Pixel size: 160 ~ 250 nm MM2S Board User Interface (Ul): Computer monitor Wafer display Industrial PC (IPC) Image computer (IMCs) Inspection Station (IS): Granite suspension Optics plate Air filter Stage cooling Wafer handler (EFEM) Dual open, 8"-12" Dual SMIF, 8" Dual FIMS, 8"-12" Missing parts: Hard Disk Drive (HDD) Keyboard, mouse and joystick Solenoid board with valve and AF LED board Y1 Flex board (2) FVPA Boards Robot controller Fan Filter Unit (FFU) Ul and IS Cable RGB Cable RS232 Cable Joystick cable EMO Cable (4) IMACS TO UI Cables (2) AZP FFA Cables MIB Cable Digital camera cable 2001 vintage.
KLA/TENCOR 2350 masque et wafer inspection équipement est une plate-forme d'inspection haute performance, fournissant des mesures diélectriques et métrologiques multi-couches précises, répétables et automatisées. Le système utilise une optique spécialisée développée pour les besoins spécifiques du marché de la lithographie, y compris les réseaux de diodes, de PTOM et de diffraction à variables linéaires (LVDP). KLA 2350 est capable de mesurer à la fois la réflexivité et la diffusion des diélectriques sur les réticules et les plaquettes. Il a une gamme de longueurs d'onde accordables allant de 355 nanomètres à 730 nanomètres, ce qui le rend apte à l'inspection dans une grande variété de matériaux et d'applications. Il a une gamme dynamique élevée et une excellente sensibilité, capable de fournir des images avec des résolutions jusqu'à 0,4 µm. L'unité d'inspection comprend également plusieurs algorithmes de programmation spécialisés tels que l'analyse partielle des défauts des plaquettes, l'analyse par traction réticulaire et la mesure du profil diélectrique. Il est intégré à de puissantes fonctions de traitement d'image et d'analyse de données, y compris la détection Mura, l'auto-alignement et la couture d'image. Cette machine comprend une interface graphique intuitive permettant à l'utilisateur d'accéder facilement à l'instrument, de le configurer et de le contrôler. Il fournit également la connectivité aux bases de données externes, permettant aux utilisateurs de lier facilement les données du processus aux programmes de contrôle de la qualité. TENCOR 2350 est conçu pour fournir des résultats cohérents, réduire la variabilité et réduire le temps de détection des défauts dans les processus avancés de photomasque et de wafer. Grâce à ses capacités avancées de traitement d'image, l'outil peut rapidement détecter et analyser les défauts en temps réel. De plus, ses logiciels intégrés de métrologie et d'analyse automatisée permettent une caractérisation diélectrique précise et répétable en une seule étape. Dans l'ensemble, 2350 actifs d'inspection sont une solution efficace et rentable pour la fiabilité et le contrôle des performances dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses technologies de pointe, telles que la diffraction laser, le PTOM et la diode, offrent une précision et une répétabilité inégalées. Avec ses logiciels intégrés et son interface utilisateur intuitive, il est l'un des systèmes les plus efficaces et les plus fiables du marché.
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