Occasion KLA / TENCOR 2350 #9296887 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR 2350 Masque et Wafer Inspection est un système d'imagerie et d'inspection de pointe conçu pour maximiser le débit et la précision de la production de semi-conducteurs à haut volume. Cette unité utilise des technologies optiques et d'imagerie avancées pour inspecter efficacement les masques et les plaquettes pendant le processus de fabrication. Tout d'abord, KLA 2350 acquiert des images haute résolution des masques et des plaquettes. La machine utilise l'imagerie par diffraction pour assurer l'acquisition précise des caractéristiques et des défauts. Cet outil d'imagerie comprend également un atout de vision intégrée qui utilise la segmentation d'image pour améliorer la précision de l'inspection. Ce modèle de vision intégrée est ensuite utilisé pour détecter rapidement les caractéristiques et les défauts de qualité fine et submicronique et pour les classer avec précision. TENCOR 2350 utilise également des algorithmes avancés de reconnaissance de motifs pour analyser à la fois les masques et les plaquettes afin d'identifier les défauts ou anomalies qui peuvent exister. Cet équipement de reconnaissance de motifs est capable de détecter rapidement divers types de défauts tels que des rayures, des vides, des trous d'épingle et des dislocations. Une fois que le système a identifié ces défauts, il peut les signaler ou donner des conseils pour améliorer les processus. Enfin, 2350 dispose d'une unité d'imagerie spectrale haute performance. Cette machine fournit une imagerie spectrale de haute précision qui peut détecter des défauts subtils dans les masques et les plaquettes. L'imagerie spectrale est combinée avec des filtres à forte puissance pour identifier précisément l'emplacement et la taille des défauts éventuels. Toutes ces caractéristiques font de KLA/TENCOR 2350 un outil d'inspection attrayant pour la production de semi-conducteurs à haut volume. La combinaison d'imagerie haute résolution, de vision intégrée, d'algorithmes avancés de reconnaissance des motifs et d'imagerie spectrale de haute précision permet à KLA 2350 d'inspecter avec précision et rapidité les masques et les plaquettes tout en minimisant la possibilité de fausses détections et fausses alarmes. Cela garantit que chaque cycle de production est plus efficace et plus précis que jamais.