Occasion KLA / TENCOR 2365 #293606937 à vendre en France

KLA/TENCOR 2365 Masque et Wafer Inspection Equipment est un réseau d'imagerie de pointe qui se concentre sur l'inspection des wafers, masques et dispositifs semi-conducteurs. Unique en son genre, le système excelle dans l'inspection des défauts, l'inspection de topographie 3D, la mesure des dimensions critiques et d'autres applications OEM difficiles. KLA 2365 offre une imagerie de haute qualité jusqu'à une grande taille de surface active de 8 « x 10 » (20 cm x 25 cm) à des résolutions nanométriques. Il comprend également une analyse des défauts des plaquettes et des panneaux plats, y compris la gravure des images et l'inspection d'examen en temps réel. L'unité utilise un grand champ de vision, une gamme dynamique et des logiciels avancés pour localiser et identifier efficacement les défauts. La technologie brevetée d'analyse automatisée des défauts permet d'identifier facilement les éléments aléatoires et structurés sur la plaquette. Grâce à une interface graphique facile à utiliser, les opérateurs peuvent naviguer rapidement sur la machine et gérer le flux de travail efficacement. Le mode révolutionnaire Real-Time Review (RTR) présente toutes les images de défaut pendant le fonctionnement en ligne à un rythme allant jusqu'à 1280 wafers par heure. Avec une puissante compression d'image, l'outil réduit les besoins de stockage de données tout en assurant un contrôle efficace de l'environnement. TENCOR 2365 exploite les dernières technologies de scatterométrie et d'imagerie en champ lumineux. Une source lumineuse ORION (scatterométrie modulaire) de 200 watts offre la capacité d'imagerie et de caractérisation la plus haute résolution. L'actif d'éclairage peut également être personnalisé pour répondre à des applications spécifiques avec les sources de lumière UV, IR et laser pulsé. Le réseau avancé d'inspection des plaquettes 2365 permet une détection rapide et précise des défauts de surface, garantissant que les plaquettes sont exemptes de défauts et de la plus haute qualité. Le modèle intelligent optimise la résolution, le contraste et la concentration pour chaque échantillon, en s'assurant que chaque défaut est correctement détecté. En utilisant KLA/TENCOR 2365, les opérateurs peuvent facilement résoudre les problèmes et apporter rapidement des modifications. L'équipement s'avère être un choix idéal pour des applications exigeantes, car il détecte rapidement et avec précision les défauts macro, les bords des puces, les particules, les rayures et d'autres types de défauts différentiels. C'est pourquoi les fabricants de puces semi-conductrices du monde entier s'appuient sur KLA 2365 Masque et Wafer Inspection System.